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湖南省建筑材料研究设计院荣获1988年度国家星火科技奖项目:《非烧结粘土砖》简介
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作者:
暂无
来源:
建筑节能
年份:
1989
文献类型 :
期刊
关键词:
轮窑
免烧砖
工业废渣
烧结粘土砖
尾矿砂
星火科技
建筑材料研究
不烧砖
工艺试验研究
胶凝材料
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描述:
非烧结粘土砖(俗称免烧砖、不烧砖)是以山土为主要原料(也可采用尾矿砂、工业废渣等),掺加少量胶凝材料和固化剂,经搅拌、压制成型、自然养生而成,不需火烧(或蒸养)的节能型墙体材料。它的综合生产能耗为轮
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竹材利用信息
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作者:
聂涛
来源:
建筑人造板
年份:
1988
文献类型 :
期刊
关键词:
新用途
吸水率
毛竹
应用范围
新材料
自然美
竹材胶合板
工艺美术品
民族风格
缝纫机台板
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描述:
一、毛竹的新用途——毛竹旋片毛竹旋片是鲜毛竹经三防(防裂、防霉、防蛀)处理后旋削干燥而成的,是目前国内外用于装饰面的一种新材料。毛竹旋片的应用范围十分广泛,可制作家俱贴花、室内墙面、天花板、地板装饰面、缝纫机台板、飞机上油箱以及工艺美术品等。家俱贴花是利用毛竹节的自然曲线花纹拼成各种各样的图案,其花色朴素高雅、美观大方,具有独特的民族风格,使人感到一种自然美,它具有平整滑爽、弹性好,强度大,耐磨,耐压,耐腐蚀,吸水率低等特点。
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浮雕涂料饰面技术及其应用
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作者:
傅长康
夏湘
来源:
建筑施工
年份:
1988
文献类型 :
期刊
关键词:
改造工程
饰面效果
水泥砂浆
混合砂浆
胶合板
百货商店
装饰效果
浮雕涂料
装饰材料
工艺方式
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描述:
,形成凹凸花纹饰面效果;其优点是:粘接牢固,花纹新颖、立体感强,有一定的吸音效果且操作简便,是一种较理想的装饰材料。 SB12—71型浮雕涂料适用于水泥砂浆或混合砂浆墙面的装饰,也适用于石膏板、木质胶合板和纤维板等板材面的装饰。
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做贺卡
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作者:
刘鹏宇
来源:
故事作文(低年级版)
年份:
2013
文献类型 :
期刊
关键词:
刀剪
油画棒
勾线
双面胶
刘鹏
小绵羊
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描述:
今天奶奶送我去少年宫上创意美术班,老师教我们做小绵羊贺卡。我们要准备的材料是:剪刀、双面胶、勾线笔、一张卡纸、油画棒、棉花、白纸、铅笔。老师告诉我们:第一步,在白纸上画一只小绵羊;第二步,把画好的小绵羊用剪刀剪下来,再把棉花粘上;第三步,把做好的小绵羊贴在卡纸上,并画上图案
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铺设五彩人生路
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作者:
于继新
田立国
来源:
光彩
年份:
2000
文献类型 :
期刊
关键词:
下岗职工
橡胶地砖
下岗再就业
高科技产品
建筑装饰材料
技术难题
再就业率
科技干部
工会女工委
废旧轮胎
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描述:
铺设五彩人生路
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厚胶光刻非线性畸变的校正
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作者:
唐雄贵
姚欣
高福华
温圣林
刘波
郭永康
杜惊雷
来源:
光学学报
年份:
2006
文献类型 :
期刊
关键词:
厚胶光刻
物理光学
模拟退火算法
非线性畸变
体积偏差
校正
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描述:
及其在光刻胶内传递、曝光、显影等过程中非线性因素的影响,利用模拟退火算法对掩模透射率函数进行校正,以提高光刻面形质量,并以凹面柱透镜为例,给出了校正前后的显影轮廓模拟结果,其校正后浮雕面形的体积偏差仅为
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连续微光学元件在光刻胶上的面形控制
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作者:
曾红军
杜春雷
王永茹
白临波
邓启凌
陈波
郭履容
袁景和
来源:
光学学报
年份:
2000
文献类型 :
期刊
关键词:
连续微光学元件
光刻胶线性
倒易关系
面形控制
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描述:
介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别 ;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围 ,并以此指导面形的控制 ,对光刻胶进行适当的改造
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制作连续沟形微光学元件的新方法
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作者:
唐继跃
陈波
徐平
郭履容
来源:
光学学报
年份:
1997
文献类型 :
期刊
关键词:
光刻术
卤化银明胶
蛋白酶
微光学元件
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描述:
提出一种制作连续沟形微光学元件的新方法。用移动物面上二元图案的方法来获得连续灰度的记录,再用卤化银明胶处理技术,把灰度银像转化成明胶硬度潜像,最后采用酶蚀显影工艺把潜像显现为连续沟形的浮雕结构。文中给出了原理分析和实验验证,初步结果令人满意
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浮雕全息图的转印复制技术研究
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作者:
何兴道
龚勇清
来源:
光子学报
年份:
1997
文献类型 :
期刊
关键词:
光学胶
转印复制
全息
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描述:
采用光学树脂作为转印介质复制浮雕全息图,适于将全息图复制到硬质基底材料上,对光敏型及热敏型两种树脂用于复制浮雕全息图进行了试验,实验结果表明;复制品的衍射效率,空间频率均接近原版全息图,并具有良好的环境稳定性,运用独特的一次转移复制工艺,工艺流程简单,设备投资少,在批量化复制生产中具有实用价值。
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负性光刻胶刻蚀工艺研究
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作者:
董小春
杜春雷
来源:
光子学报
年份:
2003
文献类型 :
期刊
关键词:
明胶
负性光刻胶
面形控制
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描述:
对负性光刻胶的蚀刻特性进行了详尽的数学阐述,推导出了光致抗蚀剂层的刻蚀速度同曝光量以及光刻材料吸收系数之间的微分关系,以该微分方程为理论依据,通过对光刻显影过程进行模拟,得出了蚀刻最佳浮雕面形所需的光刻条件,并以“重铬酸盐-明胶”为光刻材料进行实验,获得了良好的实验结果。
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