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- 深浮雕连续微光学元件制作方法
- 作者： 曾红军 陈波 郭履容 杜春雷 邱传凯 王永茹 潘丽 来源： 光电工程 年份： 2000 文献类型 ： 期刊 关键词： 蚀刻 微光学元件 连续深浮雕
- 描述： 提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度。作者对整个过程进行了考察和讨论 ,并以微棱镜为例进行了实验验证 ,为进一步制作大数值孔径连续表面微光学元件打下了技术基础。
- 微透镜列阵浮雕深度控制的新方法
- 作者： 董小春 杜春雷 潘丽 王永茹 刘强 来源： 光电工程 年份： 2003 文献类型 ： 期刊 关键词： 微透镜 曝光阈值 光刻 浮雕深度 微光学元件
- 描述： 在对材料光刻阈值特性进行研究的基础上,提出了一种可有效克服材料非线性特性影响,提高微透镜浮雕深度的新方法——基底曝光法。在曝光之前,对抗蚀剂整体施加一定量的曝光,提升抗蚀剂刻蚀基面。该方法可制作出面形均方根误差小于3%的微透镜阵列。
- 深浮雕连续微光学元件制作方法
- 作者： 曾红军 陈波 郭履容 杜春雷 邱传凯 王永茹 潘丽 来源： 光电工程 年份： 2000 文献类型 ： 期刊 关键词： 空间频率 感光乳剂 衍射效率 浮雕全息图
- 描述： 深浮雕连续微光学元件制作方法
- 连续微光学元件在光刻胶上的面形控制
- 作者： 曾红军 杜春雷 王永茹 白临波 邓启凌 陈波 郭履容 袁景和 来源： 光学学报 年份： 2000 文献类型 ： 期刊 关键词： 连续微光学元件 光刻胶线性 倒易关系 面形控制
- 描述： 介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别 ;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围 ,并以此指导面形的控制 ,对光刻胶进行适当的改造以适应连续微光学元件的制作。本文还给出了实验验证 ,制作出了多种质量优良的连续微光学元件 ,并对典型元件的面形进行了评价。
- 一种控制明胶材料微浮雕结构线性蚀刻深度的新方法
- 作者： 董小春 杜春雷 陈波 潘丽 王永茹 刘强 来源： 光子学报 年份： 2001 文献类型 ： 期刊 关键词： 线性面形 连续深浮雕微透镜列阵 预曝光蚀刻法 线性深度
- 描述： 提出一种用于扩展固定配方明胶版蚀刻范围的新方法-预曝光蚀刻法(for-exposure mothod)并通过对光刻过程中各参量的控制,最终实现了用固定配方明胶版对多种不同线性深度微浮雕透镜列阵的蚀刻,该方法在蚀刻范围、蚀刻效果等方面都大地优于传统的蚀刻方法。本文通过对比预曝光蚀刻法与常用的几种蚀刻方法,详尽的阐述了预曝光蚀刻法的原理及优点,为深浮雕光刻工艺的进一步发展奠定了基础。