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- 连续微光学元件在光刻胶上的面形控制
- 作者： 曾红军 杜春雷 王永茹 白临波 邓启凌 陈波 郭履容 袁景和 来源： 光学学报 年份： 2000 文献类型 ： 期刊 关键词： 连续微光学元件 光刻胶线性 倒易关系 面形控制
- 描述： 介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别 ;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围 ,并以此指导面形的控制 ,对光刻胶进行适当的改造以适应连续微光学元件的制作。本文还给出了实验验证 ,制作出了多种质量优良的连续微光学元件 ,并对典型元件的面形进行了评价。
- 精确控制大数值孔径微透镜列阵面形的显影阈值方法
- 作者： 董小春 杜春雷 来源： 光学学报 年份： 2004 文献类型 ： 期刊 关键词： 显影阈值 正性光致抗蚀剂 光刻模型 面形控制
- 描述： 提出了一种可对大矢高、非球面微透镜阵列面形进行精确控制的新方法。针对不同面形的微透镜阵列 ,该方法首先对光致抗蚀剂表面的曝光分布进行设计 ,然后 ,利用光致抗蚀剂显影过程中的阈值特性 ,对微透镜的面形实行控制。当抗蚀剂显影速率接近 0时 ,即可获得设计的微透镜面形。该方法不仅大大提高了微透镜阵列矢高的加工范围 ,而且还减小了光刻材料显影特性对微透镜面形的影响 ,提高了微透镜阵列的面形控制精度 ,在实验中获得了矢高达 114 μm的微透镜阵列。最终实现了大浮雕深度、大数值孔径、非球面微列阵光学元件的面形控制。