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新彩棉10号品种简介
作者: 万英   孔宪良   郭景红   曾红军   杨永林   赵建军   来源: 中国棉花 年份: 2006 文献类型 : 期刊 关键词: 棉花研究所   新疆维吾尔自治区   生产示范   农作物品种审定委员会   简介   新疆石河子   定向培育   彩棉  
描述: 新彩棉10号(原代号石彩3)是新疆石河子棉花研究所于1999年以抗病、早熟、丰产、优质的中棉所品系中394为母本,外引深棕絮材料黄绒棉为父本进行杂交,经病圃强化选择、定向培育而成。2004—2005年参加自治区彩棉区试。2005年进行生产示范。2006年2月通过新疆维吾尔自治区农作物品种审定委员会审定,并命名为新彩棉10号。[第一段]
北疆陆地棉杂种优势利用
作者: 赵海   孔宪良   曾红军   李玉国   王刚   来源: 中国棉花 年份: 2006 文献类型 : 期刊 关键词: 杂种优势利用   陆地棉   中早熟   新疆棉花   效果显著   北疆   标杂A1   育种单位   杂交棉品种   品质下降  
描述: ),新彩9号(陆×海,棕色)。近年北疆也引进了一些内地杂交棉品种,如标杂A1,增产效果显著。但内地杂交棉品种在新疆种植,生育期普遍偏长,纤维品质下降,且只能在少数地区种植,推广受到一定限制。“十一五”期间
深浮雕连续微光学元件制作方法
作者: 曾红军   陈波   郭履容   杜春雷   邱传凯   王永茹   潘丽   来源: 光电工程 年份: 2000 文献类型 : 期刊 关键词: 蚀刻   微光学元件   连续深浮雕  
描述: 提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度。作者对整个过程进行了考察和讨论 ,并以微棱镜为例进行了实验验证 ,为进一步制作大数值孔径连续表面微光学元件打下了技术基础。
深浮雕连续微光学元件制作方法
作者: 曾红军   陈波   郭履容   杜春雷   邱传凯   王永茹   潘丽   来源: 光电工程 年份: 2000 文献类型 : 期刊 关键词: 空间频率   感光乳剂   衍射效率   浮雕全息图  
描述: 深浮雕连续微光学元件制作方法
掩模移动技术中的边框效应及其应用
作者: 曾红军   陈波   郭履容   邱传凯   杜春雷   来源: 光电工程 年份: 2000 文献类型 : 期刊 关键词: 边框效应   掩膜移动技术   复杂面形   微光学元件  
描述: 掩模移动技术是一种通过移动掩模调制曝光量的连续面形微光学制作技术,其工作的局限性在于该技术对所制元件的对称性要求高,因此限制了制作复杂面形的功能。本文从分析掩模移动过程中的边框效应入手,阐明了消除这一效应负面影响的办法,并利用它来降低掩模移动技术的对称性要求,在实验中制作出了面形复杂的连续浮雕微光学元件。
连续微光学元件在光刻胶上的面形控制
作者: 曾红军   杜春雷   王永茹   白临波   邓启凌   陈波   郭履容   袁景和   来源: 光学学报 年份: 2000 文献类型 : 期刊 关键词: 连续微光学元件   光刻胶线性   倒易关系   面形控制  
描述: 介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别 ;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围 ,并以此指导面形的控制 ,对光刻胶进行适当的改造以适应连续微光学元件的制作。本文还给出了实验验证 ,制作出了多种质量优良的连续微光学元件 ,并对典型元件的面形进行了评价。
一种微光刻全息记录新材料:光刻蚀纤维素软片成像机理及其特性研究
作者: 朱建华   郭履容   唐继跃   曾红军   来源: 光学学报 年份: 1996 文献类型 : 期刊 关键词: 全息记录材料   光刻蚀纤维素软片(PCF)   激光光解材料  
描述: 报道一种新型的聚合物全息记录材料:光刻蚀纤维素软片(PCF),对该材料较强的实时特性、较高的分辨本领、线性的表面浮雕调制特性等进行了实验研究,同时通过电子自旋共振谱(ESR)、红外谱(IR)等手段研究了其成像过程中的光化学反应过程,证实了它的光降解机理。
湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响
作者: 曾红军   郭履容   陈波   庞霖   来源: 大连理工大学学报 年份: 1997 文献类型 : 期刊 关键词: 显影液   自适应光学   “九五”国家科技攻关   国家重点实验室   湿法刻蚀   信息光学   微细加工   作用位点   表面性质   微光学元件  
描述: 湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响曾红军郭履容陈波庞霖(四川大学信息光学研究中心成都610064)浮雕型全息光学元件(HOE)在红外光学、自适应光学、光互联等领域有着广泛应用。全息记录材料曝光后,其潜像要经过显影等后处理(湿法刻蚀)才能获得浮雕。...
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