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2000
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光电工程
(1)
关键词
掩模移动技术中的边框效应及其应用
作者：
曾红军
陈波
郭履容
邱传凯
杜春雷
来源：
光电工程
年份：
2000
文献类型 ：
期刊
关键词：
边框效应
掩膜移动技术
复杂面形
微光学元件
描述：
掩模移动技术是一种通过移动掩模调制曝光量的连续面形微光学制作技术，其工作的局限性在于该技术对所制元件的对称性要求高，因此限制了制作复杂面形的功能。本文从分析掩模移动过程中的边框效应入手，阐明了消除这一效应负面影响的办法，并利用它来降低掩模移动技术的对称性要求，在实验中制作出了面形复杂的连续浮雕微光学元件。
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