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湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响
作者： 曾红军   郭履容   陈波   庞霖   来源： 大连理工大学学报 年份： 1997 文献类型 ： 期刊 关键词： 显影液   自适应光学   “九五”国家科技攻关   国家重点实验室   湿法刻蚀   信息光学   微细加工   作用位点   表面性质   微光学元件  
描述： 湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响曾红军郭履容陈波庞霖（四川大学信息光学研究中心成都６１００６４）浮雕型全息光学元件（ＨＯＥ）在红外光学、自适应光学、光互联等领域有着广泛应用。全息记录材料曝光后，其潜像要经过显影等后处理（湿法刻蚀）才能获得浮雕。...
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