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- 误差扩散法设计用于惯性约束聚变驱动器的色分离光栅-光束采样光栅集成元件
- 作者： 张怡霄 姚欣 高福华 郭永康 来源： 光学学报 年份： 2007 文献类型 ： 期刊 关键词： 误差扩散 光束采样光栅(BSG) 灰阶编码 集成光学 色分离光栅(CSG) 惯性约束聚变驱动器
- 描述： 针对多次曝光法制作集成衍射光学元件时存在的加工制作复杂,会引入较大的对位误差等问题,基于计算全息中的误差扩散编码原理及部分相干光成像理论,提出采用误差扩散编码方法来设计用于制作浮雕结构集成元件的编码掩模的新方法。给出了利用误差扩散法设计的色分离光栅-光束采样光栅(CSG-BSG)集成元件编码掩模,模拟计算了经部分相干成像系统后的空间像光强分布,并与理想的集成元件面形进行了比较。结果表明,校正后均方差为7.5%,体积偏差为10.2%。
- 厚胶光刻非线性畸变的校正
- 作者： 唐雄贵 姚欣 高福华 温圣林 刘波 郭永康 杜惊雷 来源： 光学学报 年份： 2006 文献类型 ： 期刊 关键词： 厚胶光刻 物理光学 模拟退火算法 非线性畸变 体积偏差 校正
- 描述： 利用厚胶光刻技术制作大深度微结构元件是一种有效的途径,但厚胶光刻过程中的非线性畸变对光刻面形质量的严重影响限制了该技术的应用,基于此,提出了一种对掩模透射率函数进行校正的方法。分析空间像形成及其在光刻胶内传递、曝光、显影等过程中非线性因素的影响,利用模拟退火算法对掩模透射率函数进行校正,以提高光刻面形质量,并以凹面柱透镜为例,给出了校正前后的显影轮廓模拟结果,其校正后浮雕面形的体积偏差仅为2.63%。该方法在有效改善面形质量的同时,并没有引起掩模的设计、制作难度及费用增加,这对于设计、制作高质量的微结构元件有重要意义。
- 灰阶编码掩模制作微光学元件
- 作者： 粟敬钦 姚军 杜惊雷 张怡霄 高福华 郭永康 崔铮 来源： 光学学报 年份： 2001 文献类型 ： 期刊 关键词： 光刻 编码灰阶掩模 微光学元件
- 描述： 提出一种基于改变灰阶编码掩模的单元形状和位置的掩模设计新方法 ,并根据成像过程中的非线性因素 ,用这种方法对掩模图形进行了预畸变校正。根据部分相干光成像理论和抗蚀剂曝光显影模型 ,模拟计算了这种灰阶编码掩模产生的空间光强分布和光刻胶上的浮雕结构。采用电子束曝光系统制作了这种掩模 ,并在光刻胶上获得具有连续面形的微透镜的阵列
- 厚胶光刻中光敏化合物浓度空间分布研究
- 作者： 唐雄贵 高福华 高峰 郭永康 杜惊雷 刘世杰 来源： 微细加工技术 年份： 2005 文献类型 ： 期刊 关键词： 曝光 后烘 厚层光刻胶 光刻 PAC浓度分布
- 描述： 厚胶光刻过程是一个复杂的非线性过程,其光刻胶内光敏化合物(PAC)浓度空间分布是影响显影面形的主要因素。根据厚层胶光刻的特点,结合光化学反应机理,利用角谱理论,分析了在曝光过程中光刻胶内衍射光场和PAC浓度的空间分布随时间的动态变化,以及后烘(PEB)过程对PAC浓度空间分布的影响。该方法数值计算结果准确,且速度快。数值模拟表明,其内部衍射光场分布与PAC浓度分布是一个动态的、非线性的相互影响过程;后烘工艺可平滑PAC浓度空间分布;PAC浓度空间分布是影响浮雕面形边沿陡度的一个重要因素。