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- 烘焙工艺条件对厚胶光刻面形的影响
- 作者： 唐雄贵 姚欣 郭永康 杜惊雷 温圣林 刘波 刘倩 董小春 来源： 微细加工技术 年份： 2005 文献类型 ： 期刊 关键词： 前烘 厚胶光刻 光刻面形 坚膜
- 描述： 采用厚层正性光刻胶AZ P4620进行光刻实验,考察了在前烘和坚膜阶段不同的工艺参数条件下的光刻胶浮雕面形的变化。实验表明,完全显影后光刻胶的浮雕面形受前烘工艺参数的影响很小,但其显影速率有一定差别;当坚膜烘焙后,不同前烘条件下的浮雕面形差别较大;当前烘条件相同时,坚膜参数的变化对光刻胶的浮雕面形影响较大。由此得出,在前烘阶段应采取较高温度、较短时间的烘焙,而在坚膜阶段应采取较低温度、较长时间的烘焙,这样可提高厚胶光刻面形的质量。
- 厚胶光刻中光敏化合物浓度空间分布研究
- 作者： 唐雄贵 高福华 高峰 郭永康 杜惊雷 刘世杰 来源： 微细加工技术 年份： 2005 文献类型 ： 期刊 关键词： 曝光 后烘 厚层光刻胶 光刻 PAC浓度分布
- 描述： 厚胶光刻过程是一个复杂的非线性过程,其光刻胶内光敏化合物(PAC)浓度空间分布是影响显影面形的主要因素。根据厚层胶光刻的特点,结合光化学反应机理,利用角谱理论,分析了在曝光过程中光刻胶内衍射光场和PAC浓度的空间分布随时间的动态变化,以及后烘(PEB)过程对PAC浓度空间分布的影响。该方法数值计算结果准确,且速度快。数值模拟表明,其内部衍射光场分布与PAC浓度分布是一个动态的、非线性的相互影响过程;后烘工艺可平滑PAC浓度空间分布;PAC浓度空间分布是影响浮雕面形边沿陡度的一个重要因素。
- AZ9260光刻胶制作连续非球面微透镜阵列的研究
- 作者： 张晓玉 姚汉民 杜春雷 潘丽 邱传凯 来源： 微细加工技术 年份： 2003 文献类型 ： 期刊 关键词： AZ9260光刻胶 深浮雕 连续非球面微透镜阵列 面型控制
- 描述： 为解决研制深浮雕连续非球面微光学元件所面临的浮雕深度和面型控制这两大难点,选取吸收系数小的AZ9260正性光刻胶进行实验研究.提出了采用低温长时间前烘和连续升温后烘技术实现深浮雕结构和非球面面型的控制,并得到口径为300 μm、抗蚀剂厚度为35.49μm、石英刻蚀深度为72.36μm双曲线柱面透镜的最佳光刻工艺参数.实验曲线与标准双曲线拟合所得最大误差为2.363 7μm,均方根差为0.977 9 μm.
- 光刻胶灰化技术用于同步辐射闪耀光栅制作
- 作者： 徐向东 周洪军 洪义麟 霍同林 陶晓明 傅绍军 来源： 微细加工技术 年份： 2000 文献类型 ： 期刊 关键词： 离子束刻蚀 全息光刻 光刻胶灰化工艺
- 描述： 在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上 ,首次将光刻胶灰化工艺引入到全息 离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中 ,并成功地为国家同步辐射实验室光化学站制作了 1 2 0 0 1 /mm ,闪耀波长为 1 30nm的锯齿槽形光栅。测试结果表明光刻胶灰化处理对制作大面积优质的光刻胶光栅非常有效和实用。
- 亚波长结构二元衍射微透镜的设计方法
- 作者： 陈思乡 易新建 陈四海 来源： 微细加工技术 年份： 2001 文献类型 ： 期刊 关键词： 衍射微透镜 二元光学 亚波长结构
- 描述： 分析了基于标量衍射理论的位相型衍射微透镜的光学行为，结合等效媒质理论提出了二元衍射微透镜的一种新的亚波长结构近似设计方法。根据标量理论位相量化的概念，分析连续浮雕透镜的相移函数，结合等效媒质理论的等效折射率表达式，可以确定亚波长结构透镜的面型函数。
- 微三维结构电火花铣削关键技术研究
- 作者： 赵万生 李志勇 王振龙 杨洋 张勇 来源： 微细加工技术 年份： 2003 文献类型 ： 期刊 关键词： 电火花加工 数控系统 微细加工
- 描述： .综合采用此技术设计了专用微细电火花数控系统,制备了直径30μm,长度3 mm的工具电极,使用此电极加工出1 mm×0.3 mm×0.18mm的雕塑头像.
- 隧道窑中工件的温度响应
- 作者： 龚汨清 来源： 微细加工技术 年份： 1997 文献类型 ： 期刊 关键词： 隧道窑 温度响应 温度滞后
- 描述： 本文讨论隧道窑中工件的温度响应，结果表明。工件所经历的温度过程相对于隧道窑设定的温度曲线而言，会出现温度滞后。文章介绍了影响温度滞后的若干因素。
- 科研成果简讯
- 作者： 暂无 来源： 微细加工技术 年份： 1993 文献类型 ： 期刊 关键词： 科研成果 发光二极管 辊道窑 级设计 双推 推板窑 定型鉴定 M型 电子部 氮气氛保护
- 描述： 93年12月6日,由电子部基础产品重大工程司委托南京中磁公司主持召开的科技成果鉴定会上,48所研制的ST—1型全自动双推板辊道窑和RAN14—35×2100×19/UM型21米全自动氮气氛保护推板窑