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- 高精度微结构聚合物光栅的复制技术
- 作者： 王伟 周常河 来源： 中国激光杂志 年份： 2007 文献类型 ： 期刊 关键词： 光栅复制 微结构光栅 压印技术 衍射与光栅
- 描述： 光敏聚合物材料上复制微结构光栅的详细过程。经过优化工艺条件,成功地复制了一系列不同周期和开口比的微结构光栅,测试了复制光栅和母光栅的衍射图像和0级与±1级的衍射强度,结果表明,复制光栅和母光栅的衍射图像与光强分布基本一致。
- 一种基于散斑结构的全息显示屏
- 作者： 周雷 吴智华 浦东林 申溯 周小红 陈林森 来源： 中国激光杂志 年份： 2007 文献类型 ： 期刊 关键词： 全息显示屏 像面全息 散斑场 数字再现 全息
- 描述： 提出一种全息平面显示屏的设计和制作方法。显示屏由全息像素单元组成,每一个像素单元都基于散斑的像面全息结构,其中基元光栅起到调制入射光并定向衍射成像的作用。分析了显示屏的视场特性,数值模拟了记录参考光不同入射角度和起限制垂直方向视场作用的狭缝的宽度对再现散斑像的影响。制作出幅面大小为600 mm×800 mm(约40″),厚度为1.5 mm的普通投影全息显示屏,给出相应的制作流程和制作参数。结果表明,全息显示屏具有高亮度和消色散的优点,浮雕型结构便于进行大幅面的快速微纳米压印复制,使得所提出的显示屏具有低成本的工艺优势。
- 酶蚀卤化银明胶制作连续微结构
- 作者： 彭钦军 郭永康 刘世杰 朱建华 曾阳素 陈波 来源： 中国激光杂志 年份： 2003 文献类型 ： 期刊 关键词： 实时掩模 光化学 连续微结构 蛋白酶刻蚀 卤化银明胶
- 描述： 提出酶蚀卤化银明胶制作连续深浮雕微结构的新方法.给出了卤化银明胶酶蚀成像原理和深刻蚀过程机理的理论分析.求得存在吸收时,刻蚀深度与曝光量关系的解析式.表明胶膜对光的吸收是造成其非线性关系的主要原因,并提出了解决方案和优化工艺参数,通过实验得到在刻蚀深度为4 μm范围内有良好的线性关系,最后成功制作了良好面形的微柱透镜列阵.
- GaAs(100)面光栅皱折的形成
- 作者： 刘枝伍 曹根娣 来源： 中国激光杂志 年份： 1981 文献类型 ： 期刊 关键词： 暗条纹 刻蚀技术 掩模 光致抗蚀剂 轮廓控制 图形转换 全息干涉 激光束 化学腐蚀 离子刻蚀
- 描述： 使用光致抗蚀剂的全息干涉曝光、显影方法在GaAs(100)面衬底上形成光致抗蚀剂光栅图形.采用选择化学腐蚀将光致抗蚀剂光栅浮雕图形转换到GaAs(100)面衬底上.已成功地在GaAs(100)面衬底上制作了周期为0.33微米的光栅皱折.在GaAs(100)面上的光栅皱折具有良好的V-形沟槽轮廓.
- 激光辐照瓷上釉的初步探讨
- 作者： 李树贞 来源： 激光杂志 年份： 1981 文献类型 ： 期刊 关键词： 充分熔化 连续输出 上釉 釉上彩 碳激光器 耐酸瓷板 快速烧成 激光功率密度 无釉瓷 激光辐照
- 描述： (一)开拓激光制备无机釉膜层的途径 大家知道,陶瓷制品表面上的釉彩是厚0.05～0.5毫米的玻璃态薄层。瓷釉能提高机械强度和热稳定性,使表面光滑美观,增强抗污能力。瓷件釉彩层的制备,通常是在泥坯或经过素烧的瓷坯上涂上釉浆彩料,然后送入窑炉中烧制而成的。工艺周期长,常出现缺釉等多种缺陷。缺釉需要修补时,可在该处涂上釉浆,回窑高温焙烧,也可采用环氧树脂为基质材料的低温填补方法。前者质量尚可,但费时耗资。后者虽然简单易行,但对在户外使用的高压电瓷等产品,因环氧树脂是有机物,经阳光曝晒和风雨侵蚀,很
- 激光束扫描下古代浮雕破损区域的检测技术
- 作者： 何艳 谭海军 来源： 激光杂志 年份： 2016 文献类型 ： 期刊 关键词： 激光扫描 点云 灰度值 检测技术
- 描述： 传统仪器扫描多用于对二维平面的扫描处理,工作距离短,在对浮雕等立体物体扫描时精度较差,光源寿命短,提出激光束扫描的古代浮雕破损区域检测技术。首先构建三维激光束扫描模型,对浮雕单一点进行激光束扫描进而获取点云集合;然后对激光束点云集合的数据信息进行预处理,去除浮雕图像的噪声干扰和误差;最后采用灰度梯度函数来识别浮雕图像的灰度值变化,实现对古代浮雕破损区域的检测。实验结果表明,该方法对古代浮雕破损区域的检测时,在扫描图像的清晰度和误差控制方面相比传统扫描方法具有较大优势。
- 线偏振超高斯光束通过矩形浮雕光栅的传输
- 作者： 张丽娟 李建龙 来源： 激光杂志 年份： 2009 文献类型 ： 期刊 关键词： 矩形浮雕光栅 超高斯光束 “逆规则”傅里叶模式理论
- 描述： 利用严格的"逆规则"傅里叶模式理论,研究了超高斯光束在特征尺寸可与波长相比拟的矩形浮雕介质光栅中的传输,分析了光束中心入射角、入射点位置、光束束宽对栅体内光强空间分布及其对称性的影响。最后,数值比较了它们的相对误差为1%时,对光强空间分布形状的影响,结果表明入射点的纵坐标z0的误差可容度最小,束宽w0最大。
- 如何制作具有预期刻蚀深度的光刻胶浮雕全息图
- 作者： 钟丽云 吕晓旭 张文碧 熊秉衡 杨齐民 宫爱玲 来源： 激光杂志 年份： 1997 文献类型 ： 期刊 关键词： 刻蚀深度 浮雕全息图 相位调制度
- 描述： 光刻胶浮雕全息图通常是作为复制模压全息图的母版，在复制过程中所转移的是全息沟纹信息，所复制的全息图的衍射效率决定于沟纹的深度，因此控制浮雕全息图的沟纹深度非常重要，本文通过测量光刻胶浮雕全息图的衍射光强来确定它具有的相位调制度，从而间接地找到了测量刻蚀深度的新方法，并利用它来指导拍摄有预期刻蚀深度的光刻胶浮雕全息图。
- 用等离子体蚀刻法提高浮雕全息光栅的衍射效率
- 作者： 张晓春 江朝川 郭履容 来源： 激光杂志 年份： 1993 文献类型 ： 期刊 关键词： 等离子体蚀刻 衍射效率 浮雕全息光栅
- 描述： 本文提出了用等离子体蚀刻法提高浮雕全息光栅衍射效率的原理和方法.从光致抗蚀剂层蚀刻到Si3N4薄膜层的光栅衍射效率已达31.2％,比原版光致抗蚀剂层母光栅的衍射效率提高了2.5倍。这种方法可制作优质的浮雕薄膜光栅。
- 二维亚波长抗反射光栅的制作及其特性分析
- 作者： 赵凤梅 刘守 张向苏 任雪畅 来源： 激光杂志 年份： 2009 文献类型 ： 期刊 关键词： 抗反射 等效介质理论 全息术 亚波长光栅
- 描述： 运用等效介质理论研究了占空比随深度变化的二维亚波长光栅的抗反射原理。对全息干涉法制得的正弦型光栅进行了详细分析,表明这类光栅形成了渐变折射率的抗反膜结构。设计并利用两束相干光对称入射到记录介质(光刻胶)分两次曝光的全息方法制备了适用于可见波段的周期为310nm的二维正交正弦型光栅。测试结果表明这种光栅在整个可见光波段具有增透作用,有潜力作为传统抗反膜的替代品。将具有浮雕结构的记录介质为母版并采用模压或浇铸等方法,可将结构复制到其它材料上。这类抗反射材料具有制作简单、成本低、可大批量生产等优点。