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- 灰阶编码掩模制作微光学元件
- 作者： 粟敬钦 姚军 杜惊雷 张怡霄 高福华 郭永康 崔铮 来源： 光学学报 年份： 2001 文献类型 ： 期刊 关键词： 光刻 编码灰阶掩模 微光学元件
- 描述： 提出一种基于改变灰阶编码掩模的单元形状和位置的掩模设计新方法 ,并根据成像过程中的非线性因素 ,用这种方法对掩模图形进行了预畸变校正。根据部分相干光成像理论和抗蚀剂曝光显影模型 ,模拟计算了这种灰阶编码掩模产生的空间光强分布和光刻胶上的浮雕结构。采用电子束曝光系统制作了这种掩模 ,并在光刻胶上获得具有连续面形的微透镜的阵列
- 制作连续沟形微光学元件的新方法
- 作者： 唐继跃 陈波 徐平 郭履容 来源： 光学学报 年份： 1997 文献类型 ： 期刊 关键词： 光刻术 卤化银明胶 蛋白酶 微光学元件
- 描述： 提出一种制作连续沟形微光学元件的新方法。用移动物面上二元图案的方法来获得连续灰度的记录，再用卤化银明胶处理技术，把灰度银像转化成明胶硬度潜像，最后采用酶蚀显影工艺把潜像显现为连续沟形的浮雕结构。文中给出了原理分析和实验验证，初步结果令人满意
- 湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响
- 作者： 曾红军 郭履容 陈波 庞霖 来源： 大连理工大学学报 年份： 1997 文献类型 ： 期刊 关键词： 显影液 自适应光学 “九五”国家科技攻关 国家重点实验室 湿法刻蚀 信息光学 微细加工 作用位点 表面性质 微光学元件
- 描述： 湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响曾红军郭履容陈波庞霖（四川大学信息光学研究中心成都６１００６４）浮雕型全息光学元件（ＨＯＥ）在红外光学、自适应光学、光互联等领域有着广泛应用。全息记录材料曝光后，其潜像要经过显影等后处理（湿法刻蚀）才能获得浮雕。...
- 连续型衍射透镜激光直写技术研究
- 作者： 刘宏开 罗崇泰 王多书 陈焘 叶自煜 来源： 红外与激光工程 年份： 2006 文献类型 ： 期刊 关键词： 连续型衍射透镜 激光直写 光致抗蚀剂 连续型浮雕结构 微光学元件
- 描述： 出了具有良好面形微结构和较高衍射效率的连续型衍射透镜。研究表明,激光直写技术直写精度高,加工工艺灵活,利用计算机的控制,能够根据光学设计产生的浮雕分布数据制作复杂的、任意形状和外形的微型浮雕结构,非常适合于高精度微光学元件的加工制作.
- 微光学和纳米光学制造技术
- 作者： 美 凯米编著 来源： 北京：机械工业出版社 年份： 2012 文献类型 ： 图书 关键词： 制造 纳米材料 微光技术 光学元件 应用
- 描述： 本书详细介绍了微米光学和纳米光学元件成功的、最新的制造工艺，重点强调了关键性的专业技巧，提供了最新的技术信息，内容包括：面浮雕衍射光学元件、微光学等离子体刻蚀加工技术、使用相位光栅掩模板的模拟光刻术、光学器件的电子束纳米光刻制造技术。