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根据【关键词:退火】搜索到相关结果 25 条
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铸石节能隧道窑研制成功
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作者:
郭仁才
来源:
中国建材科技
年份:
1990
文献类型 :
期刊
关键词:
生产规模
技术经济指标
退火时间
中间试验
试验结果
国家建材局
山东电力
预期指标
退火窑
出窑
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描述:
我院玻璃所设计研制的铸石快速退火节能隧道窑于1990年6月在山东电力蓬莱铸石厂一次点火成功,7月11日正式进行生产规模中间试验,试验结果表明: 隧道窑日油耗由原箱式退火窑的6吨多降至2吨以下,节油
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利用退火隧道窑烟气余热烘干砂型板的可行性分析
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作者:
寇丽萍
来源:
中国建材科技
年份:
2000
文献类型 :
期刊
关键词:
建筑材料工业
β氧化铝
混合燃烧
烟气余热
燃料燃烧
电阻炉
天然砂
可行性分析
退火窑
型板
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描述:
的。隧道窑是耐火材料和陶瓷品等建筑材料工业中最常见的连续烧成设备。我厂的105.6m退火窑是为 a- β氧化铝制品进行退火而设计的。它是采用重油为燃料的自动化窑炉(每小时耗用160kg重油),根据我
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铸石工业及其退火工艺装备的发展
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作者:
张筱园
来源:
中国建材科技
年份:
1991
文献类型 :
期刊
关键词:
隧道窑
铸石
退火
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描述:
简述国内外铸石工业发展概况,综合阐明国内外铸石退火工艺装备的现状和技术水平,并指出我国首座铸石快速退火工艺和节油隧道窑的特点、水平、技术经济指标和应用发展前景。
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玄武岩铸石主要退火工艺参数与成品率
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作者:
白坤玲
赵云
宿秀花
来源:
中国建材科技
年份:
2000
文献类型 :
期刊
关键词:
生产周期
工艺参数
熔窑
结晶速度
窑温
退火工艺
降温时间
退火窑
出窑
破碎率
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描述:
玄武岩铸石采用单一原料、低温熔化、快速结晶的生产工艺,采用隧道窑补晶退火,退火时间24h。铸石退火是铸石生产的重要环节,退火工艺制度正确与否直接影响制品的成品率。 影响铸石成品率的因素很多,由于以前
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综合信息
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作者:
暂无
来源:
中国建材装备
年份:
1994
文献类型 :
期刊
关键词:
拖动分子泵
特种水泥
薄板玻璃
加工装备
技术指标
波形挡边
浮法玻璃
退火窑
减速机
镀膜机
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描述:
综合信息石膏欧式雕花饰线系列模具十四年生产经验,特优惠技术产品。模具品种:雕花饰线、艺术罗马柱、浮雕灯饰、饰条、灯座、人物园雕、花台、梁柱头、楼梯花、浮雕板、浮雕壁画等五百多系列模具。免费提供生产成型技术转让胶模和玻璃钢模生产技术提供生产原材料湖南省...
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连续台车隧道窑式退火炉的使用与节能
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作者:
李玉刚
李秀平
来源:
金属制品
年份:
2002
文献类型 :
期刊
关键词:
钢丝热处理
使用
连续台车隧道窑式退火炉
节能
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描述:
,许多企业举步维艰 ,这种情况下 ,企业只有降低产品的生产成本 ,增大产量 ,凭质优价低占领市场 ,以量赢得利润。1 生产状况我厂过去采用中频和卡电退火 ,由于电费成本高 ,后来采用燃料来源充足、成本较低
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浑然天成,相得益彰
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作者:
刘洋
刘为宇
来源:
金田
年份:
2016
文献类型 :
期刊
关键词:
钢丝热处理
使用
连续台车隧道窑式退火炉
节能
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描述:
粉彩始于清代康熙年间,发展于雍正,盛于乾隆,是我国传统的釉上彩装饰手法。粉彩以它的色泽温润,清丽淡雅深受广大藏家的喜爱。随着当代艺术思潮的涌入和装饰手法的日益丰富,传统粉彩与现代多种学科的交融也愈加深入。通过不断的突破与尝试,传统粉彩也为现当代兴起的陶瓷综合装饰艺术注入了新鲜的血液,成为了综合装饰中独具特色的一种装饰手法而在当代陶瓷艺术的创作中大放异彩。
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厚胶光刻非线性畸变的校正
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作者:
唐雄贵
姚欣
高福华
温圣林
刘波
郭永康
杜惊雷
来源:
光学学报
年份:
2006
文献类型 :
期刊
关键词:
厚胶光刻
物理光学
模拟退火算法
非线性畸变
体积偏差
校正
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描述:
及其在光刻胶内传递、曝光、显影等过程中非线性因素的影响,利用模拟退火算法对掩模透射率函数进行校正,以提高光刻面形质量,并以凹面柱透镜为例,给出了校正前后的显影轮廓模拟结果,其校正后浮雕面形的体积偏差仅为
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倾斜沉积“雕塑”薄膜结构参数优化分析
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作者:
齐红基
王晴云
肖秀娣
易葵
贺洪波
范正修
来源:
光学学报
年份:
2010
文献类型 :
期刊
关键词:
“雕塑”薄膜
模拟退火算法
倾斜沉积技术
结构参数提取
薄膜
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描述:
制备了氧化钽"雕塑"薄膜。借助于模拟退火算法,对入射角度为0,20°,30°,45°和60°时两种偏振态光波的透射光谱进行拟合,确定了氧化钽"雕塑"薄膜的结构参数,并与场发射扫描电镜测量的薄膜结构进行了比较。结果表明,利用透射光谱曲线可以较为准确地获得"雕塑"薄膜的结构参数。
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电子元件用含He纳米晶钛膜高温退火后的He相关缺陷变化
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作者:
洪超
来源:
智能城市
年份:
2016
文献类型 :
期刊
关键词:
缺陷结构
含He纳米晶钛膜
退火处理
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描述:
退火处理对材料的缺陷结构有一定的影响。本文以钛圆盘作为阴极靶,Si作为衬底,采用直流磁控溅射制备不同浓度的电子元件用含He纳米晶钛膜,然后对其进行高温退火处理后进行观察分析。最后得到结论,电子元件