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Si衬底MOCVD生长GaN/InGaN多量子阱缺陷TEM研究
作者: 朱华   李翠云   莫春兰   江风益   张萌   来源: 半导体学报 年份: 2008 文献类型 : 期刊 关键词: MQW   位错   Si衬底   SEM   TEM  
描述: 用透射电子显微镜对Si衬底生长GaN/InGaN多量子阱材料进行横断面测试,在衬底和缓冲层区域进行高分辨电子显微成像(HRTEM)、电子衍射衬度成像、选区电子衍射成像,在量子阱附近区域进行了双束近似
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