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深浮雕连续微光学元件制作方法
作者: 曾红军   陈波   郭履容   杜春雷   邱传凯   王永茹   潘丽   来源: 光电工程 年份: 2000 文献类型 : 期刊 关键词: 蚀刻   微光学元件   连续深浮雕  
描述: 提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度
湿法制作连续微透镜列阵新方法
作者: 罗红心   周礼书   杜春雷   来源: 光电工程 年份: 2000 文献类型 : 期刊 关键词: 蚀刻   微透镜列阵   微光学元件  
描述: 制作连续微透镜列阵中主要的问题就是浮雕的深度和浮雕面形的控制 ,已有的微透镜列阵制作方法不能很好地解决 ;本文提出了一种利用干法和湿法蚀刻结合在硅片上制作连续深浮雕微透镜列阵的新方法 ,得到了深度 40μm的微柱面和旋转抛物面微透镜列阵
掩模移动技术中的边框效应及其应用
作者: 曾红军   陈波   郭履容   邱传凯   杜春雷   来源: 光电工程 年份: 2000 文献类型 : 期刊 关键词: 边框效应   掩膜移动技术   复杂面形   微光学元件  
描述: 掩模移动技术是一种通过移动掩模调制曝光量的连续面形微光学制作技术,其工作的局限性在于该技术对所制元件的对称性要求高,因此限制了制作复杂面形的功能。本文从分析掩模移动过程中的边框效应入手,阐明了消除
连续微光学元件在光刻胶上的面形控制
作者: 曾红军   杜春雷   王永茹   白临波   邓启凌   陈波   郭履容   袁景和   来源: 光学学报 年份: 2000 文献类型 : 期刊 关键词: 连续微光学元件   光刻胶线性   倒易关系   面形控制  
描述: 介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别 ;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围 ,并以此指导面形的控制 ,对光刻胶进行适当的改造
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