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- 深刻蚀连续浮雕微光学元件的衍射分析
- 作者： 徐平 唐继跃 郭履容 郭永康 杨家发 杜春雷 李展 周明宝 来源： 中国激光 年份： 1996 文献类型 ： 期刊 关键词： 深刻蚀 连续位相 元件 微光学 衍射光学
- 描述： 讨论了深蚀刻连续浮雕位相微光学元件的衍射特性．给出了槽形与衍射效率关系的初步研究结果．对实际制作具有指导意义．
- 深浮雕连续微光学元件制作方法
- 作者： 曾红军 陈波 郭履容 杜春雷 邱传凯 王永茹 潘丽 来源： 光电工程 年份： 2000 文献类型 ： 期刊 关键词： 蚀刻 微光学元件 连续深浮雕
- 描述： 提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度
- 基于平面-浮雕面形调制型光栅分束器的设计
- 作者： 陈敏 于盛林 蒋海慧 罗宁宁 高益庆 来源： 光电工程 年份： 2008 文献类型 ： 期刊 关键词： 浮雕面形 光线追迹 微光学 光栅分束器
- 描述： 针对衍射光栅分束器,本文提出一种基于平面-浮雕面形调制型光栅实现分束器设计的方法。该方法根据光线追迹原理设计获得光栅相位和面形多项式函数通式,采用遗传算法优化面形多项式函数系数,分别设计了分束比为1
- 微透镜列阵浮雕深度控制的新方法
- 作者： 董小春 杜春雷 潘丽 王永茹 刘强 来源： 光电工程 年份： 2003 文献类型 ： 期刊 关键词： 微透镜 曝光阈值 光刻 浮雕深度 微光学元件
- 描述： 在对材料光刻阈值特性进行研究的基础上,提出了一种可有效克服材料非线性特性影响,提高微透镜浮雕深度的新方法——基底曝光法。在曝光之前,对抗蚀剂整体施加一定量的曝光,提升抗蚀剂刻蚀基面。该方法可制作出面形均方根误差小于3%的微透镜阵列。
- 湿法制作连续微透镜列阵新方法
- 作者： 罗红心 周礼书 杜春雷 来源： 光电工程 年份： 2000 文献类型 ： 期刊 关键词： 蚀刻 微透镜列阵 微光学元件
- 描述： 制作连续微透镜列阵中主要的问题就是浮雕的深度和浮雕面形的控制 ,已有的微透镜列阵制作方法不能很好地解决 ;本文提出了一种利用干法和湿法蚀刻结合在硅片上制作连续深浮雕微透镜列阵的新方法 ,得到了深度 40μm的微柱面和旋转抛物面微透镜列阵
- 掩模移动技术中的边框效应及其应用
- 作者： 曾红军 陈波 郭履容 邱传凯 杜春雷 来源： 光电工程 年份： 2000 文献类型 ： 期刊 关键词： 边框效应 掩膜移动技术 复杂面形 微光学元件
- 描述： 掩模移动技术是一种通过移动掩模调制曝光量的连续面形微光学制作技术，其工作的局限性在于该技术对所制元件的对称性要求高，因此限制了制作复杂面形的功能。本文从分析掩模移动过程中的边框效应入手，阐明了消除
- 连续面形微光学元件的深刻蚀工艺
- 作者： 唐雄贵 杜春雷 邱传凯 董小春 潘丽 来源： 光电工程 年份： 2003 文献类型 ： 期刊 关键词： 深刻蚀 等离子刻蚀 连续面形 微光学元件
- 描述： 利用电感耦合等离子(ICP)刻蚀技术,在石英上刻蚀深连续面形微光学元件。分析了影响 深刻蚀工艺的烘焙条件、气体组分、自偏压和刻蚀温度等主要工艺参数,并对影响深刻蚀稳定性、均匀性、刻蚀污染与损伤等因素进行了探讨。通过实验,在石英上制作出深达55微米的浮雕微柱透镜,其面形峰值误差小于3%。
- 基于硫醇-烯的微光学元件低收缩紫外压印工艺
- 作者： 刘楠 金鹏 谭久彬 来源： 光电子(激光) 年份： 2012 文献类型 ： 期刊 关键词： 固化收缩 硫醇 反应离子刻蚀 紫外压印 微光学元件 烯
- 描述： 基于硫醇-烯类材料具有固化凝胶点滞后的特点,本文将多种硫醇-烯类材料应用于紫外压印的连续浮雕结构微光学元件复制加工工艺中,用以降低固化收缩对于加工误差的影响。实验结果表明,虽然该材料的固化收缩达到