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- 深浮雕连续微光学元件制作方法
- 作者： 曾红军 陈波 郭履容 杜春雷 邱传凯 王永茹 潘丽 来源： 光电工程 年份： 2000 文献类型 ： 期刊 关键词： 蚀刻 微光学元件 连续深浮雕
- 描述： 提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度
- 基于平面-浮雕面形调制型光栅分束器的设计
- 作者： 陈敏 于盛林 蒋海慧 罗宁宁 高益庆 来源： 光电工程 年份： 2008 文献类型 ： 期刊 关键词： 浮雕面形 光线追迹 微光学 光栅分束器
- 描述： 针对衍射光栅分束器,本文提出一种基于平面-浮雕面形调制型光栅实现分束器设计的方法。该方法根据光线追迹原理设计获得光栅相位和面形多项式函数通式,采用遗传算法优化面形多项式函数系数,分别设计了分束比为1
- 微透镜列阵浮雕深度控制的新方法
- 作者： 董小春 杜春雷 潘丽 王永茹 刘强 来源： 光电工程 年份： 2003 文献类型 ： 期刊 关键词： 微透镜 曝光阈值 光刻 浮雕深度 微光学元件
- 描述： 在对材料光刻阈值特性进行研究的基础上,提出了一种可有效克服材料非线性特性影响,提高微透镜浮雕深度的新方法——基底曝光法。在曝光之前,对抗蚀剂整体施加一定量的曝光,提升抗蚀剂刻蚀基面。该方法可制作出面形均方根误差小于3%的微透镜阵列。
- 湿法制作连续微透镜列阵新方法
- 作者： 罗红心 周礼书 杜春雷 来源： 光电工程 年份： 2000 文献类型 ： 期刊 关键词： 蚀刻 微透镜列阵 微光学元件
- 描述： 制作连续微透镜列阵中主要的问题就是浮雕的深度和浮雕面形的控制 ,已有的微透镜列阵制作方法不能很好地解决 ;本文提出了一种利用干法和湿法蚀刻结合在硅片上制作连续深浮雕微透镜列阵的新方法 ,得到了深度 40μm的微柱面和旋转抛物面微透镜列阵