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根据【关键词:射线】搜索到相关结果 68 条
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《佛山陶瓷》总1~10期目录摘要
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作者:
暂无
来源:
佛山陶瓷
年份:
1994
文献类型 :
期刊
关键词:
碳化硅耐火材料
X射线荧光分析仪
陶瓷辊棒
陶瓷料浆
佛山陶瓷
一次低温快速烧成
原子吸收光度法
可编程控制器
氧化锌压敏陶瓷材料
压电陶瓷
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描述:
(总期一页数)(总期一页数) 1.大理石抛光磨头的研制与生产 王永华(l—1)19.微波/真空干燥设备(译文)周志烽译(4—18) 2.窒青石匣钵的X射线分析 马 波(1—7)20.原子吸收光度法
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不同衬底温度下生长的Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7.0薄膜的XPS研究
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作者:
张效华
辛凤
胡跃辉
陈义川
杨丰
来源:
真空科学与技术学报
年份:
2013
文献类型 :
期刊
关键词:
Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7
脉冲激光沉积
薄膜
X射线光电子能谱
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描述:
~700℃范围内变化。X射线衍射测量结果表明:当在500℃沉积BZN薄膜时,薄膜呈现出无定形态结构。随着衬底温度增加到550℃,薄膜开始晶化,并且显示出立方焦绿石结构。X射线光电子能谱也被用来研究BZN薄膜
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浅析监视器的分类
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作者:
曾本彬
来源:
中国公共安全(市场版)
年份:
2006
文献类型 :
期刊
关键词:
终端设备
阴极射线管
CRT
闪烁
工作人员
监视器
LCD
视频监控
发展经历
分类
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描述:
监视器作为视频监控不可缺的终端设备,充当着监控人员的“眼睛”,同时也为事后凋查起到关键性作用。监视器的发展经历了黑白到彩色,从闪烁到不闪烁,从CRT(阴极射线管)到LCD(液晶)的发展过程,每个过程
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“南澳Ⅰ号”沉船出水克拉克瓷产地的科技分析
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作者:
杜静楠
陈岳
李乃胜
明朝方
朱剑
罗武干
来源:
光谱学与光谱分析
年份:
2015
文献类型 :
期刊
关键词:
X射线荧光光谱
微量元素
瓷器产地
南澳Ⅰ号
克拉克瓷
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描述:
了新的宝贵资料。结合传统器型学方法与波长色散型X射线荧光光谱分析,探明了十件“南澳Ⅰ号”沉船出水瓷器的产地,为更深入的研究工作打好了基础。
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13.4nm软X射线干涉光刻透射光栅的优化设计
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作者:
朱伟忠
吴衍青
陈敏
王纳秀
邰仁忠
徐洪杰
来源:
光学学报
年份:
2008
文献类型 :
期刊
关键词:
复折射率
严格耦合波方法
衍射效率
软X射线透射光栅
干涉光刻
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描述:
基于严格的矢量耦合波方法,结合纳米级光栅实际制作工艺,定量分析了在13.4 nm软X射线(TE偏振)正入射条件下,光栅材料、厚度、占空比、梯形浮雕底角大小等因素对光栅一级衍射效率的影响。结果表明
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同样是外购部件生产器械定性为何不同
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作者:
王张明
来源:
中国食品药品监管
年份:
2009
文献类型 :
期刊
关键词:
射线摄影
结构与组成
摄影系统
注册
地址
生产资料
主要性能
探测器
部件
医疗器械产品
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描述:
案例1.A药监局检查中发现,B院使用的医用X射线摄影系统系D器械生产公司生产,产品注册证显示该系统主要性能结构与组成为控制台、X射线球管、移动式摄影床,
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南澳一号沉船出水青花瓷的无损分析研究
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作者:
黎继立
何斌
刘松
李青会
来源:
激光与光电子学进展
年份:
2016
文献类型 :
期刊
关键词:
青花瓷
成像系统
南澳一号沉船
光学相干层析成像
X射线荧光光谱分析
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描述:
为揭示早期青花瓷器的综合信息并探索青花瓷分类和产地识别的科学分析方法,将X射线荧光(XRF)光谱分析技术与光学相干层析(OCT)成像相结合,对南澳一号沉船出水的不同产地明代青花瓷瓷片釉面断层结构特征
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赣州七里镇窑出土酱釉瓷组成配方研究
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作者:
于洁
张茂林
来源:
中国陶瓷工业
年份:
2017
文献类型 :
期刊
关键词:
七里镇
能量色散X射线荧光
酱釉
南宋
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描述:
七里镇窑自晚唐创烧开始绵延至宋元时期,曾经鼎盛一时。窑口产品釉色丰富造型多样,是江西五大名窑之一,在省内外享有很高的声誉。采用能量色散X射线荧光光谱仪(EDXRF)对七里镇窑口出土的酱釉瓷器样品胎釉
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一种新型的微束X射线荧光谱仪及其在考古学中的应用
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作者:
程琳
丁训良
刘志国
潘秋丽
初学莲
冯松林
来源:
物理学报
年份:
2007
文献类型 :
期刊
关键词:
微束X射线荧光
X光透镜
青花
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描述:
介绍了一种新型的基于X光透镜的微束X射线荧光分析系统的结构、性能和特点及其在考古学中的应用.X光透镜将旋转阳极X射线发生器产生的X射线束聚成直径为几十微米的光束,实现了对考古样品的无损、原位、微区
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大面积10000线/毫米软X射线金属型透射光栅的设计、制作与检测
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作者:
朱伟忠
吴衍青
郭智
朱效立
马杰
谢常青
史沛熊
周洪军
霍同林
邰仁忠
徐洪杰
来源:
物理学报
年份:
2008
文献类型 :
期刊
关键词:
软X射线干涉光刻
软X射线金属型透射光栅
严格耦合波方法
衍射效率
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描述:
×1.5 mm,Cr浮雕厚度为50 nm,Gap/period为0.6,衬底Si3N4厚度为100 nm.此光栅将用于上海光源软X射线干涉光刻实验站.利用其1级衍射光和2级衍射光将可以经济高效地制作周期