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- 13.4nm软X射线干涉光刻透射光栅的优化设计
- 作者： 朱伟忠 吴衍青 陈敏 王纳秀 邰仁忠 徐洪杰 来源： 光学学报 年份： 2008 文献类型 ： 期刊 关键词： 复折射率 严格耦合波方法 衍射效率 软X射线透射光栅 干涉光刻
- 描述： 基于严格的矢量耦合波方法,结合纳米级光栅实际制作工艺,定量分析了在13.4 nm软X射线(TE偏振)正入射条件下,光栅材料、厚度、占空比、梯形浮雕底角大小等因素对光栅一级衍射效率的影响。结果表明,在此波段处,Si3N4、Cr、Au浮雕的相位作用对光栅衍射起重要影响,其中非金属材料Si3N4比金属材料Cr、Au的相位作用更明显。最后优化得到了用Si(或Si3N4)做衬底的Si3N4、Cr、Au光栅,分析结果显示,其一级衍射效率优于目前用于13.4 nm软X射线干涉光刻的Cr、Si3N4复合光栅。