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奈维尔·维斯绘画艺术的创作特征
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作者:
王永波
来源:
大舞台
年份:
2015
文献类型 :
期刊
关键词:
奈维尔·维斯
创作特征
新写实主义
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描述:
奈维尔·维斯是20世纪新写实主义画家,也是美国当代最具代表性的画家之一,他一生致力于水彩画、蛋彩画、油画的创作,留下了许多深受平民喜爱的作品。这些作品贴近生活、贴近自然,既充满了精致逼真的写实风格,又糅合了自身的情感,流动着感人肺腑的诗意。本文将以奈维尔·维斯的绘画作品为研究对象,从题材、光色、构图、造型四大方面详细分析其创作特征,希望能为广大美术工作者了解奈维尔·维斯的绘画艺术及新写实主义绘画提供一定参考。
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试析《大卫》的创作思路与美学特征
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作者:
王永强
来源:
大舞台
年份:
2014
文献类型 :
期刊
关键词:
米开朗琪罗
文艺复兴
美学特征
大卫像
艺术思维
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描述:
米开朗琪罗借鉴圣经故事中的人物,将自己对人性、人情的理解灌注到雕塑身上,创作了雕塑作品《大卫》,使其在表现男性形体健美的同时,也展现出人的多面性。《大卫》以其精湛的雕刻技艺和独具匠心的艺术构思展现了男性的阳刚之美,同时,也体现了一个英雄的从容与淡定、坚毅与果敢。
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内蒙古清水河陶瓷产业及可持续性发展研究
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作者:
王永利
来源:
数码设计(下)
年份:
2018
文献类型 :
期刊
关键词:
青年书法家
卫平
治印
篆刻
临帖
李阳冰
《泰山刻石》
篆书
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描述:
1 研究意义 1.1 "南有景德镇,北有清水河",历史上清水河的制瓷业曾经盛极一时,也是拥有400多年悠久历史的北方"磁州窑系"的杰出代表,而地处黄河岸边的窑沟乡是清水河县最大的陶瓷生产基地
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陶溪川:工业遗产资源再利用的造梦空间
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作者:
王永健
来源:
中华文化画报
年份:
2018
文献类型 :
期刊
关键词:
青年书法家
卫平
治印
篆刻
临帖
李阳冰
《泰山刻石》
篆书
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描述:
徜徉于陶溪川艺术区,我们很难将它与它的前身国营宇宙瓷厂联系起来。精心设计的园区环绕水系,颇具历史感的工业遗产博物馆,现代艺术气息浓郁的陶溪川美术馆,活力四射的邑空间以及各个精心布置的店铺,都是在宇宙瓷厂废弃厂房基础上建构出来的,甚至工业化时期遗留下来的窑炉、烟囱,也是经过现代设计理念重新规划和设计,共同构成了陶溪川的艺术景观。今天的陶溪川现代气息浓郁,成为当代艺术与时尚的展示场,是景德镇最
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重庆中国三峡博物馆藏釉里红瓷器精品赏
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作者:
王永超
来源:
文物天地
年份:
2018
文献类型 :
期刊
关键词:
中华民族
釉里红瓷器
三峡
品赏
景德镇窑
中国
馆藏
重庆
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描述:
红色自古以来就是中华民族特别喜爱的颜色之一,象征着喜庆和吉祥,好运与活力。历代能工巧匠都为将一抹鲜艳的红色烧制在瓷器上而孜孜不倦地探索,但直到元代釉里红瓷器烧制成功,这一长久夙愿才算终于实现。釉里红诞生在元代景德镇窑
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城市生态圈的危机与解危之雏见
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作者:
刘金钟
王永萍
来源:
规划师
年份:
1996
文献类型 :
期刊
关键词:
城市环境
硬质景观
危机
氧化碳
生态圈
无土栽培
城市规划
经济效益
绿地面积
生态场
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描述:
的生态圈——植物与动物的比例关系——由10:1——100:1降低为1:10—1:100,出现了倒金字塔式的可危局面.联合国“环境与发展委员会”在《我们共同的未来》报告中,指出地球目前面临着十六个大问题:人口膨胀、土壤流失严重,沙化面积增大,森林面积减少、大气污染、水污染、
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新媒体时代看新闻策划新动向——抗战胜利70周年纪念活动媒体报道浅析
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作者:
王永平
来源:
新闻研究导刊
年份:
2015
文献类型 :
期刊
关键词:
新方向
新媒体
新闻策划
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描述:
新闻策划是当前新闻竞争的战略要地。随着以互联网为代表的新媒体的快速成长和大众传播面貌地改变,已对传统媒体造成极大冲击。为此,新老媒体均对新闻策划予以高度重视。今年,是中国抗战胜利70周年,神州聚焦,全球关注,对其纪念活动的报道是各大媒体抢占新闻高点的必争之地。从去年下半年开始的各种媒体对抗战胜利纪念活动的策划报道,五彩缤纷、千姿百态、各具特色,是一次全方位、大规模、高档次的新闻策划大比拼。本文拟从国内主要媒体对抗战胜利70周年纪念活动的报道入手,探索新媒体时代新闻策划的一些新动向。
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戏曲美学与戏曲舞美
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作者:
王永才
来源:
管理观察
年份:
2009
文献类型 :
期刊
关键词:
美术设计
艺术
中国
戏曲
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描述:
作为世界艺术奇葩的中国戏曲,其主要的关学特征究竟是什么呢?概括起来说,就是写意性。“写意”,原本是国画的一种画法,用笔不求工细,注重神态的表现和抒发作者的情趣,与“工笔”相对。戏曲是诗、画、戏的融合。在本质上,它与写意国画的写意性是相通的,即不求形似,贵在神似,以虚带实,重在抒情。戏曲舞台美术设计的基本美学原则和最高艺术任务,就是结合具体剧情和风格,用写意的或写意与写实相结合的艺术方法,创造优美的舞台意境。
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深浮雕连续微光学元件制作方法
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作者:
曾红军
陈波
郭履容
杜春雷
邱传凯
王永茹
潘丽
来源:
光电工程
年份:
2000
文献类型 :
期刊
关键词:
蚀刻
微光学元件
连续深浮雕
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描述:
提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度。作者对整个过程进行了考察和讨论 ,并以微棱镜为例进行了实验验证 ,为进一步制作大数值孔径连续表面微光学元件打下了技术基础。
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微透镜列阵浮雕深度控制的新方法
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作者:
董小春
杜春雷
潘丽
王永茹
刘强
来源:
光电工程
年份:
2003
文献类型 :
期刊
关键词:
微透镜
曝光阈值
光刻
浮雕深度
微光学元件
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描述:
在对材料光刻阈值特性进行研究的基础上,提出了一种可有效克服材料非线性特性影响,提高微透镜浮雕深度的新方法——基底曝光法。在曝光之前,对抗蚀剂整体施加一定量的曝光,提升抗蚀剂刻蚀基面。该方法可制作出面形均方根误差小于3%的微透镜阵列。