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- 国外半导体技术发展概况
- 作者： 哨兵 来源： 微纳电子技术 年份： 1972 文献类型 ： 期刊 关键词： 航空电子学 场效应管 半导体集成电路 半导体技术 参量放大器 千兆赫 噪声系数 研制单位 固体电路技术 微波大功率
- 描述： 一、引言自从半导体技术问世以来,由于半导体新理论、新器件、新材料、新工艺和新设备的不断提出和涌现以及这些学科之间紧密配合和互相促进,近年来半导体技术得到了迅速的发展。其典型的例子是半导体器件的迅速进展。半导体器件,以其小型、可靠、高效率和低功耗等优点,有力地促进了整机的发展,深受整机研制单位的重视。比如半导体固体电路技术,小巧玲珑的半导体集成电路已取代了笨
- 数字灰度投影光刻技术
- 作者： 赵立新 严伟 王建 胡松 唐小萍 王肇志 王淑蓉 张正荣 张雨东 来源： 微纳电子技术 年份： 2009 文献类型 ： 期刊 关键词： 拼接 数字微镜器件 无掩模光刻 投影物镜 数字灰度光刻
- 描述： 随着MEMS和MOEMS技术的发展和器件制作对低成本、灵活、高效的需求,数字灰度无掩模光刻技术已成为人们研究的热点。介绍了一种基于数字微镜器件(DMD)的无掩模数字灰度投影光刻技术,结合电寻址数字微镜阵列的工作方式,分析了DMD的灰度调制机理和投影成像特性;阐述了DMD微镜结构与投影系统的倍数、数值孔径的关系;设计了投影光刻系统,并进行了分辨力和三维面形的曝光实验。实验结果表明,数字灰度投影光刻技术灵活、方便,尤其在三维浮雕微结构的制作方面,可实现光刻灰度的数字化调制,表面粗糙度可达0.1μm。