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- 光的干涉与衍射
- 作者： 暂无 来源： 中国光学与应用光学文摘 年份： 2002 文献类型 ： 期刊 关键词： 应用光学 蚀刻衍射光栅 国家重点实验室 二维表面浮雕结构 技术研究 中科院 多层膜光栅 光电子技术 二元光学元件 现代光学仪器
- 描述： O436.1 2002053254 二维表面浮雕结构的矢量衍射分析=Vector analysisof two-dimensional surface-relief structurediffraction[刊,中]/鱼卫星,卢振武,王鹏,翁志成(中科院长春光机所应用光学国家重点实验室.吉林,长春
- 利用多层膜生长技术制备纳米印章模板
- 作者： 张永军 李卫 孟祥东 杨景海 华中 李伟 徐骏 黄信凡 陈坤基 来源： 物理学报 年份： 2006 文献类型 ： 期刊 关键词： 多层膜生长技术 纳米印章模板
- 描述： 在纳米印章技术中,为克服电子束刻蚀制备50nm以下线条的技术难点,利用等离子增强化学气相沉积技术制备了a-Si/SiNx多层膜,再利用选择性湿法腐蚀或干法腐蚀在横截面上制备出浮雕型一维纳米级模板. 多层膜子层之间界面清晰陡峭,可以在纳米量级对子层厚度进行控制,得到了侧壁在纳米尺度上平滑的模板.通过控制多层膜子层的生长时间,制备出线条宽度和槽状宽度均为20nm的等间距模板,品质优于电子束刻蚀技术制备的模板.