利用多层膜生长技术制备纳米印章模板

【类型】期刊

【作者】张永军 李卫 孟祥东 杨景海 华中 李伟 徐骏 黄信凡 陈坤基  

【刊名】物理学报

【关键词】 多层膜生长技术 纳米印章模板

【资助项】科技部科研项目(2001CB610503,2003CD314702-02) 中国科学院资助项目(10174035,90301009) 吉林省科技发展计划(20040506-3) 吉林师范大学校科研和校改项目(2005074)

【摘要】在纳米印章技术中,为克服电子束刻蚀制备50nm以下线条的技术难点,利用等离子增强化学气相沉积技术制备了a-Si/SiNx多层膜,再利用选择性湿法腐蚀或干法腐蚀在横截面上制备出浮雕型一维纳米级模板. 多层膜子层之间界面清晰陡峭,可以在纳米量级对子层厚度进行控制,得到了侧壁在纳米尺度上平滑的模板.通过控制多层膜子层的生长时间,制备出线条宽度和槽状宽度均为20nm的等间距模板,品质优于电子束刻蚀技术制备的模板.

【年份】2006

【期号】第4期

【页码】2033-2037

【作者单位】吉林师范大学物理学院；南京大学物理系,固体微结构物理国家重点实验室；南京大学物理系,固体微结构物理国家重点实验室；吉林师范大学物理学院

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