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关键词
酶蚀卤化银明胶制作连续微结构
作者: 彭钦军   郭永康   刘世杰   朱建华   曾阳素   陈波   来源: 中国激光杂志 年份: 2003 文献类型 : 期刊 关键词: 实时掩模   光化学   连续微结构   蛋白酶刻蚀   卤化银明胶  
描述: 提出酶蚀卤化银明胶制作连续深浮雕微结构的新方法.给出了卤化银明胶酶蚀成像原理和深刻蚀过程机理的理论分析.求得存在吸收时,刻蚀深度与曝光量关系的解析式.表明胶膜对光的吸收是造成其非线性关系的主要原因,并提出了解决方案和优化工艺参数,通过实验得到在刻蚀深度为4 μm范围内有良好的线性关系,最后成功制作了良好面形的微柱透镜列阵.
GaAs(100)面光栅皱折的形成
作者: 刘枝伍   曹根娣   来源: 中国激光杂志 年份: 1981 文献类型 : 期刊 关键词: 暗条纹   刻蚀技术   掩模   光致抗蚀剂   轮廓控制   图形转换   全息干涉   激光束   化学腐蚀   离子刻蚀  
描述: 使用光致抗蚀剂的全息干涉曝光、显影方法在GaAs(100)面衬底上形成光致抗蚀剂光栅图形.采用选择化学腐蚀将光致抗蚀剂光栅浮雕图形转换到GaAs(100)面衬底上.已成功地在GaAs(100)面衬底上制作了周期为0.33微米的光栅皱折.在GaAs(100)面上的光栅皱折具有良好的V-形沟槽轮廓.
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