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一种基于散斑结构的全息显示屏
作者: 周雷   吴智华   浦东林   申溯   周小红   陈林森   来源: 中国激光杂志 年份: 2007 文献类型 : 期刊 关键词: 全息显示屏   像面全息   散斑场   数字再现   全息  
描述: 提出一种全息平面显示屏的设计和制作方法。显示屏由全息像素单元组成,每一个像素单元都基于散斑的像面全息结构,其中基元光栅起到调制入射光并定向衍射成像的作用。分析了显示屏的视场特性,数值模拟了记录参考光不同入射角度和起限制垂直方向视场作用的狭缝的宽度对再现散斑像的影响。制作出幅面大小为600 mm×800 mm(约40″),厚度为1.5 mm的普通投影全息显示屏,给出相应的制作流程和制作参数。结果表明,全息显示屏具有高亮度和消色散的优点,浮雕型结构便于进行大幅面的快速微纳米压印复制,使得所提出的显示屏具有低成本的工艺优势。
酶蚀卤化银明胶制作连续微结构
作者: 彭钦军   郭永康   刘世杰   朱建华   曾阳素   陈波   来源: 中国激光杂志 年份: 2003 文献类型 : 期刊 关键词: 实时掩模   光化学   连续微结构   蛋白酶刻蚀   卤化银明胶  
描述: 提出酶蚀卤化银明胶制作连续深浮雕微结构的新方法.给出了卤化银明胶酶蚀成像原理和深刻蚀过程机理的理论分析.求得存在吸收时,刻蚀深度与曝光量关系的解析式.表明胶膜对光的吸收是造成其非线性关系的主要原因,并提出了解决方案和优化工艺参数,通过实验得到在刻蚀深度为4 μm范围内有良好的线性关系,最后成功制作了良好面形的微柱透镜列阵.
GaAs(100)面光栅皱折的形成
作者: 刘枝伍   曹根娣   来源: 中国激光杂志 年份: 1981 文献类型 : 期刊 关键词: 暗条纹   刻蚀技术   掩模   光致抗蚀剂   轮廓控制   图形转换   全息干涉   激光束   化学腐蚀   离子刻蚀  
描述: 使用光致抗蚀剂的全息干涉曝光、显影方法在GaAs(100)面衬底上形成光致抗蚀剂光栅图形.采用选择化学腐蚀将光致抗蚀剂光栅浮雕图形转换到GaAs(100)面衬底上.已成功地在GaAs(100)面衬底上制作了周期为0.33微米的光栅皱折.在GaAs(100)面上的光栅皱折具有良好的V-形沟槽轮廓.
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