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- 数字灰度投影光刻技术
- 作者： 赵立新 严伟 王建 胡松 唐小萍 王肇志 王淑蓉 张正荣 张雨东 来源： 微纳电子技术 年份： 2009 文献类型 ： 期刊 关键词： 拼接 数字微镜器件 无掩模光刻 投影物镜 数字灰度光刻
- 描述： 随着MEMS和MOEMS技术的发展和器件制作对低成本、灵活、高效的需求,数字灰度无掩模光刻技术已成为人们研究的热点。介绍了一种基于数字微镜器件(DMD)的无掩模数字灰度投影光刻技术,结合电寻址数字微镜阵列的工作方式,分析了DMD的灰度调制机理和投影成像特性;阐述了DMD微镜结构与投影系统的倍数、数值孔径的关系;设计了投影光刻系统,并进行了分辨力和三维面形的曝光实验。实验结果表明,数字灰度投影光刻技术灵活、方便,尤其在三维浮雕微结构的制作方面,可实现光刻灰度的数字化调制,表面粗糙度可达0.1μm。