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关键词
浮雕型全息相位光栅的衍射
作者: 杨齐民   张文碧   来源: 光子学报 年份: 1996 文献类型 : 期刊 关键词: 浮雕型全息光栅   衍射效率  
描述: 本文从理论上推导出了浮雕型相位全息光栅所满足的衍射方程式,并数值计算了光刻胶四种情况下的+1级衍射光的衍射效率与相位光栅刻蚀深度的关系。还和大量实际拍摄的全息光栅作了比较,发现它基本上都能与实验相符
模压全息衍射效率的分析
作者: 张文碧   杨齐民   来源: 光子学报 年份: 1996 文献类型 : 期刊 关键词: 散斑光强分布   非线性转移   光栅蚀深度   衍射效率  
描述: 本文指出光刻胶所记录到的是浮雕型相位光栅,经历了电铸、模压转移到PET薄膜上,在此过程中光栅刻蚀深度的转移是非线性的,即深度浅的方法,其最后结果将更浅,甚至丢失。由于散射物体散斑的光强分布是严重不均匀的,故光刻胶上记录下各散斑的光栅刻蚀深度也严重不均匀,经过电铸、模压后,进一步加重了这种不均匀性,使得模压片的衍射效率降低,解决的办法是尽可能地使各个散斑上的光栅刻蚀深度趋于均匀化。
如何制作具有预期刻蚀深度的光刻胶浮雕全息图
作者: 钟丽云   吕晓旭   张文碧   熊秉衡   杨齐民   宫爱玲   来源: 激光杂志 年份: 1997 文献类型 : 期刊 关键词: 刻蚀深度   浮雕全息图   相位调制度  
描述: 光刻胶浮雕全息图通常是作为复制模压全息图的母版,在复制过程中所转移的是全息沟纹信息,所复制的全息图的衍射效率决定于沟纹的深度,因此控制浮雕全息图的沟纹深度非常重要,本文通过测量光刻胶浮雕全息图的衍射光强来确定它具有的相位调制度,从而间接地找到了测量刻蚀深度的新方法,并利用它来指导拍摄有预期刻蚀深度的光刻胶浮雕全息图。
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