模压全息衍射效率的分析

【类型】期刊

【作者】张文碧 杨齐民 

【刊名】光子学报

【关键词】 散斑光强分布 非线性转移 光栅蚀深度 衍射效率

【资助项】云南省教委基金

【摘要】本文指出光刻胶所记录到的是浮雕型相位光栅,经历了电铸、模压转移到PET薄膜上,在此过程中光栅刻蚀深度的转移是非线性的,即深度浅的方法,其最后结果将更浅,甚至丢失。由于散射物体散斑的光强分布是严重不均匀的,故光刻胶上记录下各散斑的光栅刻蚀深度也严重不均匀,经过电铸、模压后,进一步加重了这种不均匀性,使得模压片的衍射效率降低,解决的办法是尽可能地使各个散斑上的光栅刻蚀深度趋于均匀化。

【年份】1996

【期号】第7期

【页码】640-643

【作者单位】云南工业大学激光研究所

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