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- 基于CFD研究电场力对陶瓷静电施釉的影响
- 作者： 韩文 吴琦 徐晗 王伟 来源： 陶瓷学报 年份： 2015 文献类型 ： 期刊 关键词： 施釉 CFD 运动速度 静电场 釉滴 粒径
- 描述： 针对陶瓷在施釉过程中,制品表面釉滴分布不均匀的问题,采用欧拉-拉格朗日法构建了在静电场力作用下的DPM模型,并基于CFD软件分析了未加入电压、加入-15 k V,-30 k V电压和-50 k V电压四种情况下陶瓷静电施釉中釉滴的粒径和运动速度分布情况。结果表明:在静电场作用下,可使得喷枪的喷幅变宽、能产生较小、均匀的釉滴粒径,并能提高釉滴的运动速度且分布均匀。其中在施加-30 k V电压条件下釉滴粒径均匀,施釉的效果最好。
- 基于CFD研究釉浆压力对陶瓷静电施釉的影响
- 作者： 徐晗 吴琦 韩文 徐磊 来源： 硅酸盐通报 年份： 2015 文献类型 ： 期刊 关键词： 施釉 CFD 静电场 釉滴 压力
- 描述： 针对陶瓷在施釉过程中,制品表面釉滴分布不均匀的问题,采用欧拉-拉格朗日法构建了在静电场力作用下的DPM模型,并基于CFD软件分析了1.5 bar、2.5 bar和5 bar三种压力情况下静电施釉过程中釉滴的粒径和运动速度分布情况。结果表明:在静电场作用和不同的压力作用下,可使得喷枪的雾化效果发生改变,能得到不同大小、不同均匀程度的釉滴粒径,并能获得不同釉滴的运动速度和分布。其中在施加2.5 bar压力条件下釉滴粒径均匀,釉浆雾化的效果最好。