基于CFD研究釉浆压力对陶瓷静电施釉的影响

【类型】期刊

【作者】徐晗 吴琦 韩文 徐磊 

【刊名】硅酸盐通报

【关键词】 施釉 CFD 静电场 釉滴 压力

【摘要】针对陶瓷在施釉过程中,制品表面釉滴分布不均匀的问题,采用欧拉-拉格朗日法构建了在静电场力作用下的DPM模型,并基于CFD软件分析了1.5 bar、2.5 bar和5 bar三种压力情况下静电施釉过程中釉滴的粒径和运动速度分布情况。结果表明:在静电场作用和不同的压力作用下,可使得喷枪的雾化效果发生改变,能得到不同大小、不同均匀程度的釉滴粒径,并能获得不同釉滴的运动速度和分布。其中在施加2.5 bar压力条件下釉滴粒径均匀,釉浆雾化的效果最好。

【年份】2015

【期号】第9期

【页码】2691-2695，2701

【作者单位】景德镇陶瓷学院机械电子工程学院

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