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中国激光杂志
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关键词
GaAs(100)面光栅皱折的形成
作者：
刘枝伍
曹根娣
来源：
中国激光杂志
年份：
1981
文献类型 ：
期刊
关键词：
暗条纹
刻蚀技术
掩模
光致抗蚀剂
轮廓控制
图形转换
全息干涉
激光束
化学腐蚀
离子刻蚀
描述：
使用光致抗蚀剂的全息干涉曝光、显影方法在GaAs(100)面衬底上形成光致抗蚀剂光栅图形.采用选择化学腐蚀将光致抗蚀剂光栅浮雕图形转换到GaAs(100)面衬底上.已成功地在GaAs(100)面衬底上制作了周期为0.33微米的光栅皱折.在GaAs(100)面上的光栅皱折具有良好的V-形沟槽轮廓.
光致抗蚀剂全息图及其复制品的特性
作者：
岩田不二雄
辻内顺平
韩心得
来源：
光学技术
年份：
1981
文献类型 ：
期刊
关键词：
复制全息图
光致抗蚀剂
光谱灵敏度
体全息图
预曝光
曝光时间
参考光束
信噪比
衍射效率
曝光量
描述：
文章叙述了用光致抗蚀剂制造的表面浮雕全息图及其模压复制品的特性。阐明光致抗蚀剂金息图与其复制品的最高衍射效率几乎有相同的值——21～25%,而且原始全息图及其复制品的最高信噪比(SNR)都相当好。
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