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- GaAs(100)面光栅皱折的形成
- 作者： 刘枝伍 曹根娣 来源： 中国激光杂志 年份： 1981 文献类型 ： 期刊 关键词： 暗条纹 刻蚀技术 掩模 光致抗蚀剂 轮廓控制 图形转换 全息干涉 激光束 化学腐蚀 离子刻蚀
- 描述： 使用光致抗蚀剂的全息干涉曝光、显影方法在GaAs(100)面衬底上形成光致抗蚀剂光栅图形.采用选择化学腐蚀将光致抗蚀剂光栅浮雕图形转换到GaAs(100)面衬底上.已成功地在GaAs(100)面衬底上制作了周期为0.33微米的光栅皱折.在GaAs(100)面上的光栅皱折具有良好的V-形沟槽轮廓.
- 厚层抗蚀剂光刻技术研究进展
- 作者： 郭颖 潘峰 周平和 王少华 刘世杰 来源： 陕西理工学院学报(自然科学版) 年份： 2007 文献类型 ： 期刊 关键词： 模拟技术 光刻 厚层抗蚀剂 发展趋势
- 描述： 厚层抗蚀剂光刻是一种制作深浮雕结构的微细加工技术。综述了近年来厚层抗蚀剂光刻技术的最新进展,从厚层抗蚀剂光刻工艺原理以及计算机模拟诸方面分析了该技术区别与传统光刻的一些特点,并对其应用的研究现状进行了总结,最后指出了进一步发展厚层抗蚀剂光刻技术的关键问题。
- 《大元故京兆知府刘侯神道碑》考略
- 作者： 杨鑫 来源： 陕西历史博物馆馆刊 年份： 2017 文献类型 ： 期刊 关键词： 模拟技术 光刻 厚层抗蚀剂 发展趋势
- 描述： 《大元故京兆知府刘侯神道碑》(以下简称《神道碑》)原在陕西省富平县庄里镇,1971年移藏陕西西安碑林博物馆。此碑建于元元贞二年(1296)十一月,由王利用撰、骆天骧书丹并篆额、段德续镌,“此碑螭首方趺,趺四面浮雕瑞兽,碑通高340厘米,宽98厘米。文27行,满行57字,楷书。额题’大元故京兆知府刘侯神道碑’12字,三行,行4字,篆书。碑
- 大荔清代李氏家族墓地仿绘画题材石刻图轴相关问题研究
- 作者： 田原曦 来源： 陕西历史博物馆馆刊 年份： 2017 文献类型 ： 期刊 关键词： 模拟技术 光刻 厚层抗蚀剂 发展趋势
- 描述： 李氏家族墓是坐落于大荔县沙苑一带的清代家族墓地,规模较大、等级较高,出土文物丰富,是研究清代渭北地区名门望族、官商家族状况、丧葬习俗、移民等的珍贵实物资料。考古发现的石室墓中出土了大量的仿绘画石刻图轴,多达400幅。石刻绘画题材丰富,内容包括人物故事、山水人物画、花草、动物、祈骧图案和博古图等类型;雕刻工艺精湛,可分为圆雕、高浮雕、减地线刻和线刻等不同的工艺手法;从图案布局形式上可分为单体人物造
- 其他
- 作者： 暂无 来源： 中国光学与应用光学文摘 年份： 2001 文献类型 ： 期刊 关键词： 激光技术 海洋大学 显影液 光致抗蚀剂 光照度 实验研究 曝光时间 理论分析 青岛 衍射效率
- 描述： TQ437 2001042953光致抗蚀剂衍射效率的研究=Study of diffractive efficiencyof photoresists[刊,中]/陈骏,雷磊,王维理,王金城(青岛海洋大学物理系.山东,青岛(266003))//激光技术.-2000,24(5).-333在理论分析的基础上对光致抗蚀剂感光版做了大量的实验研究,通过改变光照度、曝光时间、显影液浓度和显影时间,得到了拍摄该光致抗蚀剂浮雕全息干涉条纹所
- 用改进曝光模型模拟厚胶显影轮廓
- 作者： 段茜 姚欣 陈铭勇 马延琴 刘世杰 唐雄贵 杜惊雷 来源： 光电工程 年份： 2006 文献类型 ： 期刊 关键词： 显影线宽 边墙陡度 显影轮廓 厚层抗蚀剂曝光模型
- 描述： 考虑厚胶曝光过程中非线性因素的影响及其显影特点,用一套随抗蚀剂厚度发生变化的曝光参数改进的Dill曝光模型,仿真厚层抗蚀剂光刻过程,并比较新曝光模型与原有Dill模型模拟的结果差异。模拟显示,用新曝光模型获得的厚抗蚀剂显影轮廓与实验结果吻合较好;并对厚胶光刻成像机理进行了讨论。通过分析正性厚层抗蚀剂AZ4562的显影轮廓,给出其显影线宽及边墙陡度随显影时间的变化规律,提出应以获得最大边墙陡度作为优化显影时间的思想。对厚度5μm和15μm的抗蚀剂,经计算,可获得良好的抗蚀剂浮雕轮廓的优化显影时间分别为98s和208s。
- 全息图模压复制技术(Ⅰ):浮雕型彩虹全息图的形成
- 作者： 赵业玲 谢敬辉 来源： 光学技术 年份： 1990 文献类型 ： 期刊 关键词： 模压复制 主全息图 复制技术 光致抗蚀剂 模压全息图 彩虹全息图 衍射效率 浮雕全息图
- 描述： 浮雕型彩虹全息图是全息图模压复制的基础,它从根本上决定了最后成品的质量和性能。本文在介绍普通彩虹全息图和2D/3D彩虹全息图的基础上,着重介绍了我们在实验中总结出的两种形成浮雕全息图的工艺技术,即用国产的BP-212紫外正型光致抗蚀剂制造浮雕全息图和用银盐感光材料PD法制造浮雕全息图的技术。