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关键词
微透镜列阵浮雕深度控制的新方法
作者：
董小春
杜春雷
潘丽
王永茹
刘强
来源：
光电工程
年份：
2003
文献类型 ：
期刊
关键词：
微透镜
曝光阈值
光刻
浮雕深度
微光学元件
描述：
在对材料光刻阈值特性进行研究的基础上,提出了一种可有效克服材料非线性特性影响,提高微透镜浮雕深度的新方法——基底曝光法。在曝光之前,对抗蚀剂整体施加一定量的曝光,提升抗蚀剂刻蚀基面。该方法可制作出面形均方根误差小于3%的微透镜阵列。
连续面形微光学元件的深刻蚀工艺
作者：
唐雄贵
杜春雷
邱传凯
董小春
潘丽
来源：
光电工程
年份：
2003
文献类型 ：
期刊
关键词：
深刻蚀
等离子刻蚀
连续面形
微光学元件
描述：
利用电感耦合等离子(ICP)刻蚀技术,在石英上刻蚀深连续面形
微光
学元件。分析了影响 深刻蚀工艺的烘焙条件、气体组分、自偏压和刻蚀温度等主要工艺参数,并对影响深刻蚀稳定性、均匀性、刻蚀污染与损伤等因素进行了探讨。通过实验,在石英上制作出深达55微米的浮雕微柱透镜,其面形峰值误差小于3%。
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