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连续微浮雕面形控制的新方法
作者: 董小春   杜春雷   王长涛   来源: 激光与光电子学进展 年份: 2005 文献类型 : 期刊 关键词: 壁垒效应   光刻模型   面形控制   微光学元件  
描述: 曲线面形控 制技术。该方法克服了抗蚀剂显影模型精度以及显影不稳定性对浮雕面形的影响,使光刻胶上微结构浮雕深度超过 100μm,面形均方根误差小于1μm。
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