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根据【关键词:
刻蚀技术
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期刊
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陶瓷工艺
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按年份分组
1981
(1)
按来源分组
中国激光杂志
(1)
关键词
GaAs(100)面光栅皱折的形成
作者：
刘枝伍
曹根娣
来源：
中国激光杂志
年份：
1981
文献类型 ：
期刊
关键词：
暗条纹
刻蚀技术
掩模
光致抗蚀剂
轮廓控制
图形转换
全息干涉
激光束
化学腐蚀
离子刻蚀
描述：
使用光致抗蚀剂的全息干涉曝光、显影方法在GaAs(100)面衬底上形成光致抗蚀剂光栅图形.采用选择化学腐蚀将光致抗蚀剂光栅浮雕图形转换到GaAs(100)面衬底上.已成功地在GaAs(100)面衬底上制作了周期为0.33微米的光栅皱折.在GaAs(100)面上的光栅皱折具有良好的V-形沟槽轮廓.
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