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- 一种控制明胶材料微浮雕结构线性蚀刻深度的新方法
- 作者： 董小春 杜春雷 陈波 潘丽 王永茹 刘强 来源： 光子学报 年份： 2001 文献类型 ： 期刊 关键词： 线性面形 连续深浮雕微透镜列阵 预曝光蚀刻法 线性深度
- 描述： 提出一种用于扩展固定配方明胶版蚀刻范围的新方法-预曝光蚀刻法(for-exposure mothod)并通过对光刻过程中各参量的控制,最终实现了用固定配方明胶版对多种不同线性深度微浮雕透镜列阵的蚀刻,该方法在蚀刻范围、蚀刻效果等方面都大地优于传统的蚀刻方法。本文通过对比预曝光蚀刻法与常用的几种蚀刻方法,详尽的阐述了预曝光蚀刻法的原理及优点,为深浮雕光刻工艺的进一步发展奠定了基础。