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微透镜列阵光刻工艺过程的模拟与分析
作者: 董小春   杜春雷   陈波   潘丽   来源: 微纳电子技术 年份: 2003 文献类型 : 期刊 关键词: 数学模型   光刻工艺   微透镜列阵  
描述: 建立了连续深浮雕微透镜列阵光刻工艺的数学模型,通过计算机仿真实现了对工艺过程的模拟分析。为刻蚀过程中各参量的选取和刻蚀结果的分析提供了可靠的依据,对整个光刻工艺过程具有指导意义。
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