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光刻胶灰化技术用于同步辐射闪耀光栅制作
作者： 徐向东   周洪军   洪义麟   霍同林   陶晓明   傅绍军   来源： 微细加工技术 年份： 2000 文献类型 ： 期刊 关键词： 离子束刻蚀   全息光刻   光刻胶灰化工艺  
描述： 在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上 ,首次将光刻胶灰化工艺引入到全息 离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中 ,并成功地为国家同步辐射实验室光化学站制作了 1 2 0 0 1 /mm ,闪耀波长为 1 30nm的锯齿槽形光栅。测试结果表明光刻胶灰化处理对制作大面积优质的光刻胶光栅非常有效和实用。
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