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首页>  根据【关键词:光刻机】搜索到相关结果 3 条
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URE-2000/35新型紫外光刻机研制成功
作者： 暂无 来源： 润滑与密封 年份： 2007 文献类型 ： 期刊 关键词： 自动化程度   均匀照明   自动化控制   液晶显示   自动曝光   分离间隙   紫外光刻机  
描述： 近日,中科院光电所成功研发出URE-2000/35自动型光刻机。该产品集新颖性、可靠性、实用性为一体。采用三柔性支点实现高精度自动调平;真空接触自动曝光;样片升降、调平、接触、曝光、复位实现自动化
基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计
作者： 佟军民   胡松   来源： 制造技术与机床 年份： 2015 文献类型 ： 期刊 关键词： 对准系统   掩模移动曝光技术   对准精度   接近式光刻机  
描述： 提出了一种用于接近式光刻机的掩模移动曝光CCD图象对准系统,可以实现连续浮雕微光学元件的制作。由一次预对准和一次精对准实现基片的安装定位,先后通过两次预对准和两次精对准实现掩模的两次安装定位。CCD
上海微电子“智”造中国芯
作者： 宋杰   来源： 中国经济周刊 年份： 2016 文献类型 ： 期刊 关键词： 信息产业   半导体芯片   装备支撑   量产化   光刻机   平板电脑   激光退火   先进封装   移动终端   中国芯  
描述： 随着信息产业的发展,集成电路(也就是常说的“芯片”)成为手机、平板电脑等电子移动终端离不开的设备,而光刻机是半导体芯片制造业中的最核心设备。以光刻机为代表的高端半导体装备支撑着集成电路产业发展,芯片
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