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- 光致抗蚀剂全息图及其复制品的特性
- 作者： 韩心得 来源： 光学精密工程 年份： 1979 文献类型 ： 期刊 关键词： 复制品 复制全息图 显影剂 光致抗蚀剂 体全息图 预曝光 信噪比 衍射效率 浮雕全息图 曝光量
- 描述： 试验研究了用光致抗蚀剂制造的表面浮雕全息图及用模压方法制取其复制品的特性。弄清了光致抗蚀剂全息图及其复制品的最高衍射效率几乎具有相同值—21—25％,而且原始全息图及其复制品的最高信噪比(S N R)都相当之好。
- 精确控制大数值孔径微透镜列阵面形的显影阈值方法
- 作者： 董小春 杜春雷 来源： 光学学报 年份： 2004 文献类型 ： 期刊 关键词： 显影阈值 正性光致抗蚀剂 光刻模型 面形控制
- 描述： 提出了一种可对大矢高、非球面微透镜阵列面形进行精确控制的新方法。针对不同面形的微透镜阵列 ,该方法首先对光致抗蚀剂表面的曝光分布进行设计 ,然后 ,利用光致抗蚀剂显影过程中的阈值特性 ,对微透镜的面形实行控制。当抗蚀剂显影速率接近 0时 ,即可获得设计的微透镜面形。该方法不仅大大提高了微透镜阵列矢高的加工范围 ,而且还减小了光刻材料显影特性对微透镜面形的影响 ,提高了微透镜阵列的面形控制精度 ,在实验中获得了矢高达 114 μm的微透镜阵列。最终实现了大浮雕深度、大数值孔径、非球面微列阵光学元件的面形控制。
- 江师正型光刻胶全息特性的实验研究
- 作者： 陶世荃 朱伟利 来源： 影像材料 年份： 1982 文献类型 ： 期刊 关键词： 正型光刻胶 显影液 两种类型 光致抗蚀剂 位相全息图 附着力 衍射效率 浮雕全息图 正胶 最佳曝光量
- 描述： 光刻胶(光致抗蚀剂)是一种有机光敏材料,有正胶和负胶两种类型。负胶中,曝光时吸收了光的部分变成不溶性的,在显影阶段只有未曝光的部分被显影液除去,因而用负胶记录的浮雕像对基片的附着力强烈依赖曝光量。正胶则相反,胶层对基片已有足够的附着力,吸收的光子使分子发生光分解反应,因此材料软化,在显影阶段将曝光了的分子除去。故正胶是记录表面浮雕全息图的理想材料。国外广泛采用的是Shipley公司AZ-1350序列正胶,对这种光刻胶的性能已有全面研究。
- 连续型衍射透镜激光直写技术研究
- 作者： 刘宏开 罗崇泰 王多书 陈焘 叶自煜 来源： 红外与激光工程 年份： 2006 文献类型 ： 期刊 关键词： 连续型衍射透镜 激光直写 光致抗蚀剂 连续型浮雕结构 微光学元件
- 描述： 研究了不同于台阶形式的具有连续浮雕结构的衍射聚光透镜的激光直写工艺。简要描述了光致抗蚀剂的曝光和显影,对激光直写工艺的机理和工艺过程进行阐述.利用 CLWS-300W/C 极坐标激光直写设备制作出了具有良好面形微结构和较高衍射效率的连续型衍射透镜。研究表明,激光直写技术直写精度高,加工工艺灵活,利用计算机的控制,能够根据光学设计产生的浮雕分布数据制作复杂的、任意形状和外形的微型浮雕结构,非常适合于高精度微光学元件的加工制作.
- 全息母板喷银工艺研究
- 作者： 陈万金 来源： 材料保护 年份： 2001 文献类型 ： 期刊 关键词： 喷银法 光致抗蚀剂 全息模板
- 描述： 1 前 言全息摄影技术自问世以来以其三维立体效果、色彩斑斓绚丽以及动态周视等别具一格的特色 引起了科学界的广泛关注和社会公众的极大兴趣，并成为当今世界上应用研究的活跃领域之 一。随着全息技术
- 模压全息防伪商标大规模生产技术
- 作者： 暂无 来源： 中国乡镇企业信息 年份： 1994 文献类型 ： 期刊 关键词： 全息图复制 全息照相技术 全息防伪 光致抗蚀剂 高效率 性能简介 大规模 商标 浮雕全息图 功能特点
- 描述： 应用行业;金融、塑料、印刷、纸品、商业。功能特点:大规模,高效率,高效益,应用范周广。性能简介:应用全息照相技术,在光致抗蚀剂上制造浮雕全息图,然后通电铸,制成全息金属镍板,在模压机上通过加热加压的滚压方式,可以高效率地将全息图复制在镀铝聚酯薄膜上,再通过涂胶复合,模切等工序,就制成了不干胶粘贴的全息防伪商标,利用推荐的设备和技术,也能生产防伪性能更好的烫印型全息防伪商标和全息工艺品。