- 站内检索
- 发现检索
全部
图书
期刊
按文献类别分组
关键词
- 基于纳米压印的大角度衍射光学元件批量化制备方法
- 作者： 刘鑫 张满 庞辉 史立芳 曹阿秀 邓启凌 来源： 光子学报 年份： 2016 文献类型 ： 期刊 关键词： 跨尺度兼容 纳米压印 批量化 低成本 衍射光学元件
- 描述： 针对大角度(大于50°)衍射光学元件低成本、批量化制备的需求,提出一种基于纳米压印技术的制备方法.首先利用光学曝光技术或电子束直写技术制备衍射元件的原始母板,然后将原始母板的结构通过纳米压印过程复制到压印胶上,完成衍射光学元件的制备.由于纳米压印母板可以多次重复使用,降低了制作成本,提高了效率.用该方法制备了不同特征尺寸(最小为250nm,衍射全角为70°)的衍射光学元件,具有良好的衍射效果,实现了对高深宽比浮雕结构的高保真复制.该技术可实现从微米到纳米跨尺度兼容的衍射光学元件的高保真、低成本、批量化制备.