基于纳米压印的大角度衍射光学元件批量化制备方法

日期:2016.01.01 点击数:6

【类型】期刊

【作者】刘鑫 张满 庞辉 史立芳 曹阿秀 邓启凌 

【刊名】光子学报

【关键词】 跨尺度兼容 纳米压印 批量化 低成本 衍射光学元件

【资助项】国家自然科学基金(no.61505204)资助

【摘要】针对大角度(大于50°)衍射光学元件低成本、批量化制备的需求,提出一种基于纳米压印技术的制备方法.首先利用光学曝光技术或电子束直写技术制备衍射元件的原始母板,然后将原始母板的结构通过纳米压印过程复制到压印胶上,完成衍射光学元件的制备.由于纳米压印母板可以多次重复使用,降低了制作成本,提高了效率.用该方法制备了不同特征尺寸(最小为250nm,衍射全角为70°)的衍射光学元件,具有良好的衍射效果,实现了对高深宽比浮雕结构的高保真复制.该技术可实现从微米到纳米跨尺度兼容的衍射光学元件的高保真、低成本、批量化制备.

【年份】2016

【期号】第6期

【页码】108-112

【作者单位】中国科学院光电技术研究所

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