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基于移动掩模曝光的聚酰亚胺连续微结构刻蚀工艺研究
作者： 谢玉萍   吴鹏   杨正   尹韶云   杜春雷   董连和   来源： 光子学报 年份： 2015 文献类型 ： 期刊 关键词： 聚酰亚胺   微透镜   光学特性   移动掩膜曝光   各向异性   反应离子刻蚀   等比刻蚀  
描述： 的混合工作气体中,O2为一定值,随着SF6占的比例增加至13.04%,总流量为46sccm的优化值时,实现了刻蚀速率和刻蚀比分别为136nm/min和1∶1.02,刻蚀误差仅为2.3%的较好各向异性刻蚀.通过实验室搭建的焦距测试系统,证明了该方法在PI薄膜上制备的微透镜阵列与石英上具有相同的光学特性.
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