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基于移动掩模曝光的聚酰亚胺连续微结构刻蚀工艺研究
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作者：
谢玉萍
吴鹏
杨正
尹韶云
杜春雷
董连和
来源：
光子学报
年份：
2015
文献类型 ：
期刊
关键词：
聚酰亚胺
微透镜
光学特性
移动掩膜曝光
各向异性
反应离子刻蚀
等比刻蚀
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描述：
的混合工作气体中,O2为一定值,随着SF6占的比例增加至13.04%,总流量为46sccm的优化值时,实现了刻蚀速率和刻蚀比分别为136nm/min和1∶1.02,刻蚀误差仅为2.3%的较好各向异性刻蚀.通过实验室搭建的焦距测试系统,证明了该方法在PI薄膜上制备的微透镜阵列与石英上具有相同的光学特性.
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蓝宝石红外窗口抗反射浮雕结构研究
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作者：
孙艳军
冷雁冰
董连和
来源：
红外技术
年份：
2011
文献类型 ：
期刊
关键词：
抗反射
亚波长
浮雕结构
蓝宝石
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描述：
采用相应技术,在红外材料表面制成的亚波长浮雕结构能实现红外波段的减反功能。在恶劣环境中,红外窗口采用该结构代替红外减反膜能够提高其抗蚀、抗冲击等性能。通过等效媒质理论设计亚波长浮雕单元结构,采用光刻及离子蚀刻方法完成蓝宝石材料表面浮雕结构制作,经测试红外透过率整体提高大约10%。经分析,浮雕结构的周期、占空比、单元深度等因素都对减反结果影响很大。