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王 纳
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2008
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光学学报
(1)
关键词
13.4nm软X射线干涉光刻透射光栅的优化设计
作者：
朱伟忠
吴衍青
陈敏
王纳秀
邰仁忠
徐洪杰
来源：
光学学报
年份：
2008
文献类型 ：
期刊
关键词：
复折射率
严格耦合波方法
衍射效率
软X射线透射光栅
干涉光刻
描述：
基于严格的矢量耦合波方法,结合
纳米级
光栅实际制作工艺,定量分析了在13.4 nm软X射线(TE偏振)正入射条件下,光栅材料、厚度、占空比、梯形浮雕底角大小等因素对光栅一级衍射效率的影响。结果表明
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