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- 微透镜列阵浮雕深度控制的新方法
- 作者： 董小春 杜春雷 潘丽 王永茹 刘强 来源： 光电工程 年份： 2003 文献类型 ： 期刊 关键词： 微透镜 曝光阈值 光刻 浮雕深度 微光学元件
- 描述： 在对材料光刻阈值特性进行研究的基础上,提出了一种可有效克服材料非线性特性影响,提高微透镜浮雕深度的新方法——基底曝光法。在曝光之前,对抗蚀剂整体施加一定量的曝光,提升抗蚀剂刻蚀基面。该方法可制作出面形均方根误差小于3%的微透镜阵列。