微电子二元光学器件制作工艺研究
日期：2014.01.01 点击数：6
【类型】期刊
【刊名】中国科技博览
【摘要】二元光学器件的基本制作工艺是超大规模集成电路中的微电子加工技术，但微电子加工属薄膜图形加工，主要控制的是二维的薄膜图形，而二元光学器件则是一种表面的三维浮雕结构，因为要同时控制平面图形的精细尺寸和纵向深度，所以其加工难度增大。
【年份】2014
【期号】第5期
【页码】343
【作者单位】天水七四九电子有限公司
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