景德镇陶瓷数字资源平台

按文献类别分组

按栏目分组

按年份分组

按来源分组

关键词

用于无模光刻的连续浮雕谐衍射透镜阵列设计: 作者： 单明广钟志郭黎利 来源： 光学精密工程 年份： 2010 文献类型： 期刊 关键词： 无模光刻谐衍射 连续浮雕衍射透镜; 描述： 为了获得实时调焦写入以及高的系统分辨力和衍射效率，提出了一种基于连续浮雕谐衍射透镜阵列的无模光刻方法。该方法采用连续浮雕谐衍射透镜阵列作为无模光刻的物镜阵列，在兼顾系统分辨力和衍射效率基础上，由同一衍射透镜阵列实现聚焦写入和检焦；同时利用谐衍射透镜的深浮雕特性调制透镜的环带宽度，降低透镜的制作难度。在分析谐衍射透镜特点以及考虑激光直写制作工艺对连续深浮雕衍射聚焦特性影响的基础上，设计、制作并测试了设计波长为441.6nm，F数为7.5的连续浮雕谐衍射透镜阵列。测试结果表明，该阵列同时具有聚焦写入和检焦功能，且对写入激光和检焦激光的衍射效率均优于70%，有望改善无模光刻的制作质量。

激光直写制作的小F数连续浮雕衍射透镜轴向聚焦特性分析: 作者： 单明广钟志郭黎利智佩 来源： 光学学报 年份： 2009 文献类型： 期刊 关键词： 激光直写索末菲衍射理论瑞利轴向聚焦 小F数连续浮雕衍射透镜; 描述： 为确定卷积效应以及深度制作误差对小F数连续浮雕衍射透镜(DOE)轴向聚焦特性影响,基于瑞利-索末菲衍射理论建立了激光直写制作的连续浮雕衍射透镜非旁轴近似轴向光强分布模型。该模型考虑了连续浮雕衍射透镜的轴向衍射聚焦特性与透镜结构参数、写入光斑尺寸和扫描间距以及深度制作误差的关系,克服了傍轴近似条件下传统模型的不精确性。为验证模型的正确性,用激光直写制作了设计波长为441.6 nm,F数为4以及相位匹配因子为3的连续浮雕衍射透镜,并测试了波长441.6 nm激光入射时透镜的轴向聚焦特性。实验与分析表明,该模型分析结果与实验测试结果符合,从而证实模型的有效性,为激光直写制作的小F数连续浮雕衍射透镜的应用提供了理论依据。

用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列研究: 作者： 单明广郭黎利钟志 来源： 光子学报 年份： 2009 文献类型： 期刊 关键词： 深浮雕并行激光直写衍射效率 连续浮雕衍射透镜; 描述： 研究了一种用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列方法.该方法采用连续浮雕衍射透镜阵列替换传统并行激光直写中的物镜阵列,在兼顾系统分辨力基础上,克服了波带片等衍射透镜阵列衍射效率低的缺点;同时因采用深浮雕结构优化环带宽度,可降低阵列的制作难度.针对并行激光直写系统阵列F/#小的特点,在建立连续深浮雕衍射透镜阵列非旁轴近似聚焦模型基础上,设计、制作和测试了波长为441.6nm,F/#为7.5的连续深浮雕衍射透镜阵阵列.测试结果表明:该阵列的衍射效率优于70%,远高于波带片阵列的40%.

< 1 >