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关键词
连续面形微光学元件的深刻蚀工艺
作者： 唐雄贵   杜春雷   邱传凯   董小春   潘丽   来源： 光电工程 年份： 2003 文献类型 ： 期刊 关键词： 深刻蚀   等离子刻蚀   连续面形   微光学元件  
描述： 利用电感耦合等离子(ICP)刻蚀技术,在石英上刻蚀深连续面形微光学元件。分析了影响 深刻蚀工艺的烘焙条件、气体组分、自偏压和刻蚀温度等主要工艺参数,并对影响深刻蚀稳定性、均匀性、刻蚀污染与损伤等因素进行了探讨。通过实验,在石英上制作出深达55微米的浮雕微柱透镜,其面形峰值误差小于3%。
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