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光致抗蚀剂全息图及其复制品的特性: 作者： 岩田不二雄辻内顺平韩心得 来源： 光学技术 年份： 1981 文献类型： 期刊 关键词： 复制全息图光致抗蚀剂 光谱灵敏度 体全息图预曝光曝光时间参考光束信噪比衍射效率曝光量; 描述： 文章叙述了用光致抗蚀剂制造的表面浮雕全息图及其模压复制品的特性。阐明光致抗蚀剂金息图与其复制品的最高衍射效率几乎有相同的值——21～25%,而且原始全息图及其复制品的最高信噪比(SNR)都相当好。

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