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陶瓷工艺
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1981
(1)
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光学技术
(1)
关键词
光致抗蚀剂全息图及其复制品的特性
作者：
岩田不二雄
辻内顺平
韩心得
来源：
光学技术
年份：
1981
文献类型 ：
期刊
关键词：
复制全息图
光致抗蚀剂
光谱灵敏度
体全息图
预曝光
曝光时间
参考光束
信噪比
衍射效率
曝光量
描述：
文章叙述了用光致抗蚀剂制造的表面浮雕全息图及其模压复制品的特性。阐明光致抗蚀剂金息图与其复制品的最高衍射效率几乎有相同的值——21～25%,而且原始全息图及其复制品的最高信噪比(SNR)都相当好。
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