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厚层抗蚀剂光刻技术研究进展
作者： 郭颖   潘峰   周平和   王少华   刘世杰   来源： 陕西理工学院学报(自然科学版) 年份： 2007 文献类型 ： 期刊 关键词： 模拟技术   光刻   厚层抗蚀剂   发展趋势  
描述： 厚层抗蚀剂光刻是一种制作深浮雕结构的微细加工技术。综述了近年来厚层抗蚀剂光刻技术的最新进展,从厚层抗蚀剂光刻工艺原理以及计算机模拟诸方面分析了该技术区别与传统光刻的一些特点,并对其应用的研究现状进行了总结,最后指出了进一步发展厚层抗蚀剂光刻技术的关键问题。
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